全文获取类型
收费全文 | 1529篇 |
免费 | 229篇 |
国内免费 | 194篇 |
专业分类
化学 | 495篇 |
晶体学 | 13篇 |
力学 | 58篇 |
综合类 | 25篇 |
数学 | 92篇 |
物理学 | 335篇 |
无线电 | 934篇 |
出版年
2024年 | 6篇 |
2023年 | 23篇 |
2022年 | 42篇 |
2021年 | 35篇 |
2020年 | 30篇 |
2019年 | 49篇 |
2018年 | 24篇 |
2017年 | 32篇 |
2016年 | 46篇 |
2015年 | 31篇 |
2014年 | 83篇 |
2013年 | 48篇 |
2012年 | 64篇 |
2011年 | 72篇 |
2010年 | 71篇 |
2009年 | 69篇 |
2008年 | 72篇 |
2007年 | 50篇 |
2006年 | 55篇 |
2005年 | 99篇 |
2004年 | 87篇 |
2003年 | 106篇 |
2002年 | 82篇 |
2001年 | 95篇 |
2000年 | 67篇 |
1999年 | 53篇 |
1998年 | 57篇 |
1997年 | 41篇 |
1996年 | 33篇 |
1995年 | 40篇 |
1994年 | 38篇 |
1993年 | 30篇 |
1992年 | 28篇 |
1991年 | 47篇 |
1990年 | 23篇 |
1989年 | 21篇 |
1988年 | 12篇 |
1987年 | 17篇 |
1986年 | 10篇 |
1985年 | 15篇 |
1984年 | 11篇 |
1983年 | 16篇 |
1982年 | 5篇 |
1981年 | 3篇 |
1980年 | 7篇 |
1978年 | 2篇 |
1973年 | 2篇 |
1964年 | 1篇 |
1963年 | 1篇 |
1960年 | 1篇 |
排序方式: 共有1952条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
提供了一种简便易行的靶面激光光斑尺寸原位测量的方法。从高斯光束的横向光强分布特性出发,建立了激光烧蚀斑半径与辐照激光能量、光斑尺寸、烧蚀阈值间的关系式,模拟分析发现辐照激光光斑尺寸对烧蚀斑半径随辐照能量变化曲线有较大影响。对于脉宽为2 ms,波长为1064 nm的激光,实验测量了不同能量激光辐照下相纸烧蚀斑半径,并用推导出的关系式拟合测量数据,获得了靶面处光斑尺寸和样品烧蚀阈值。同时,也测量了不同位置处的光斑尺寸和样品烧蚀阈值,对高斯光束束腰位置和样品烧蚀阈值的光斑尺寸效应进行了验证。研究结果表明该技术结果可靠,简单高效。该技术可以为高能激光与固体物质相互作用的基础研究和激光加工等应用领域中实现简单方便地测量靶面光斑尺寸提供帮助。 相似文献
2.
1前言
光缆接续是光缆施工中工程大和技术要求复杂的一道工序,其质量好坏直接影响线路的传输质量和寿命。努力降低光纤接头处的熔接损耗,就可增加光纤中继放大传输距离或增加光缆富余度,因而降低光纤的熔接损耗具有重要的实际意义。 相似文献
3.
企业标准化(上) 总被引:1,自引:1,他引:0
谭福有 《信息技术与标准化》2006,(8):55-56
企业(公司)是市场经济的主体,也是标准化工作的主体。企业标准化是国家或产业标准化事业的基本组成部分,也是国家或产业标准化的基础。随着经济的发展、技术的创新、信息化进程的推进以及市场竞争的加剧,企业标准化同整个标准化事业一样,从生产技术领域扩展到企业管理领域和服务领域,从以硬件为主的标准化对象扩展到硬件和软件相结合的标准化对象,从单一标准化形式扩展到多种标准化形式,无论是思维方式和手段上,还是工作目标和方法上,都有不同程度的创新与提高。 相似文献
4.
调频高斯小波变换及其程序 总被引:3,自引:0,他引:3
本文系统地介绍了离散小波的一种常见形式─调频高斯小波,分析了尺度因子对母小波的影响,分别给出了输入函数和小波函数的离散区间的长度值及如何选取的方法。采用卷积积分法,对一定的输入函数进行了小波变换,给出了程序框图,采用Basic语言,编写了实用程序. 相似文献
5.
6.
在华为M900/M1800移动交换机软件版本升级过程中 ,出现过一次比较典型的故障。本文就这次故障的分析处理中得到的启示和经验加以总结。1故障现象描述升级后在WS上运行OMCSHELL ,无法浏览各网元 ,并且WS上显示与OMCserver的通信中断。2故障定位分析OMCSHELL与OMCserver通信问题主要涉及以下几点 :(1)网络硬件连接问题 ;(2)网络配置是否一致 ;(3)Sybase数据库、OMC软件包是否正常。3故障分析与处理在WS上PINGOMCserver不通 ,说明网络连接有问题。检查网线连接… 相似文献
7.
离子注入过程中,注入离子在掩模边缘附近的分布决定MOS晶体管漏极区域处的电场强度,计算了70keV硼离子注入硅样品中不同掩模边缘离子密度等线,考虑了四阶矩下的杂质深度分布(无掩模情况)。合理选择掩模蚀刻工艺,可获得均匀性,高抗噪声度的器件中。同时也指出了太薄掩模材料对注入离子分布的影响。 相似文献
8.
9.
10.
频谱分析仪确立新标准Rohde&Schwarz公司用于高端测试和测量应用的FSU频谱分析仪系列将建立新标准。该产品拥有较宽的动态范围,可同时处理不同电平的信号,相互之间不会遭受损害拥有13dB输入混频器的1dB压缩点和-158dBm的可显示低噪声电平(在1Hz带宽时),加上典型的25dBm三阶截获点,该公司称该规范无与伦比。在手动方式下,该分析仪每秒可完成30项测量,最小扫描时间2.5ms,零间隔为1μs,适合有时限要求的应用。FSU系列产品已为采用W-CDMA等宽带传输技术作好了准备,该系列推出各种类型滤波器(如高斯滤波器、升根余弦RRC滤… 相似文献