金刚石薄膜的反应离子刻蚀

反应离子刻蚀是金刚石薄膜图形化的一种有效方法。研究了用Ｏ２及与Ａｒ的混合气体进行金刚石薄膜图形化刻蚀的主要工艺参数（射频功能、工作气压、气体流量、反应气体成分与比例等）对刻蚀速率和刻蚀界面形貌的影响，兼顾刻蚀速率和刻蚀平滑程度等关键因素，建立了金刚石薄膜刻蚀的优化工艺参数，达到了较满意的图形效果。     

非晶多晶薄膜结构快速能量过滤径向分布函数分析

介绍研究薄膜结构的新方法—能量过滤电子衍射法。该方法借助透射电镜样品后扫描，使薄膜的选区电子衍射花样顺序地扫过电子能量损失谱仪入口光阑，检测弹性散射电子强度与散射矢量关系，然后由径向分布函数理论，导出薄膜材料的最近邻原子间距和配位数等与结构有关的信息。通过多晶金薄膜和非晶钛铝薄膜的测试，获得满意结果。     

CoAg颗粒膜巨磁阻效应的TEM研究

由于巨磁阻材料具有极高的磁阻变化率和许多其他的优良物理性能，其在磁传感器及磁阻式薄膜磁头方面具有潜在的应用价值。颗粒膜不仅具有优良的磁性能，且发现其具有各向同性巨磁阻效应，因此，巨磁阻颗粒膜材料成为近来研究的热点［１，２］。实验方法本文采用ＳＰＦ－３...