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极紫外光刻(EUVL)技术是实现45 nm特征尺寸的候选技术之一,产业化设备要求300 mm硅片的产率大于每小时80片(80 wafer/h),此时入射到掩模版上的极紫外光功率密度很高,掩模版上的吸收层和Mo/Si多层膜将分别吸收100%和35%的入射光能量,从而导致其热变形,引起光刻性能下降,因此必须分析和控制掩模热变形。利用有限元方法分析掩模版在不同功率密度下的热变形,结果表明,抗蚀剂灵敏度为7 mJ/cm2和5 mJ/cm2时,入射到掩模版上的光功率密度分别为259.24 W/cm2和184.38 W/cm2,掩模版图形区域x-y平面内最大变形分别为1.11 nm和0.71 nm,z方向最大变形分别为0.26 nm和0.19 nm。 相似文献
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为提高压电微动平台的位移输出精度,设计极点配置比例、积分、微分(PID)控制器对其进行控制。首先,在对压电执行器进行电学特性、机电特性分析的基础上,建立了压电执行器的数学模型;其次,在对平台进行受力分析、运动分析的基础上,建立了平台的动力学模型;然后,在保持平台极点虚部不变,且将系统闭环阻尼比取为1的情况下,将平台极点沿着平行于实轴的方向平移,设计出平台的PID反馈控制器;最后,实验验证了所设计控制器的有效性。实验结果表明,所设计的控制器可使平台具有较快的响应,在不考虑传感器噪声水平的情况下,平台在控制系统作用下的定位误差基本为0。 相似文献
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叙述了以多级、分组接点式投入、撤出方式的太阳能供电系统存在的问题,以及针对解决这些问题而推出具有功率适配功能的稳压变换电源,并重点阐述了功率适配功能的工作方式及特点。 相似文献
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为实现精密表面三维形貌的快速测量,提出一种螺旋式扫描测量方法.首先,基于x、y、z向直线运动平台、DD马达旋转平台以及激光位移传感器,搭建三维形貌测量系统,其中被测试件表面形貌的平面位置信息通过x向平台与DD马达同步运动所形成的螺旋扫描运动来获得,被测试件表面形貌的高度信息由激光位移传感器来获得;然后,基于所搭建的测量系统,对表面形貌为凸凹扇形的圆形试件的表面进行测量.结果表明:测量直径为15 mm的圆形区域所用的时间为420 s,能较好地实现被测试件表面形貌的快速测量. 相似文献
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电厂人员行为的准确识别与分析,对于维护电厂安全运行具有重要意义.文中使用融合运动特征的深度学习算法,建立了一套电厂工作人员的行为识别系统框架.为了提高动作识别精度、解决人体骨骼识别问题,通过引入图卷积网络建立多层时间空间融合的图卷积运算人体行为识别模型.针对单一网络检测准确率与鲁棒性低的问题,文中基于传感器网络建立了无... 相似文献
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离子辅助镀膜技术及其应用 总被引:2,自引:0,他引:2
离子辅助淀积技术对于改进光学薄膜的性质、改善薄膜的微结构、应力状态与表面形貌具有良好效果,从而得到许多具有新机能的薄膜。本文讲述丁离子辅助镀膜的实验装置,说明了使用此工艺镀制ZrO_2,薄膜样品的参数,并给出了光学特性测量、牢固度测量、表面形貌与划痕的实验结果。 相似文献