力加寿片薄层色谱鉴别研究

力加寿片是由人参皂甙、白芍、刺五加、淫羊藿、灵芝、维生素E醋酸酯(简称维E)等组成的抗衰老药。由于处方中成分复杂,相互干扰,样品必须经过色谱前预处理及薄层条件优选方可望获得重现性、灵敏度、准确性较好的层析结果。本文介绍了力加寿片样品预处     

一种基于新型片上变压器的数字隔离器设计

片上变压器是在硅片上制造的空心变压器,具有高耦合系数、低功耗和可集成性,与传统的隔离器相比,基于片上变压器的数字隔离器在功耗、体积、传输速率等方面具有明显优势。通过3D仿真方法研究了片上变压器的几何尺寸对变压器性能参数的影响,得到了优化后的片上变压器设计参数。采用自主开发的工艺流程流片,研制了片上变压器样片。同时,介绍了一种与片上变压器相匹配的编解码电路原理和设计方法,研制出磁偶数字隔离器芯片。测试结果表明,磁偶数字隔离器芯片耐压隔离能力超过3 500 V,可实现0～40 Mibit/s的低功耗数据隔离传输,延迟时间为20 ns,脉宽失真<3 ns,验证了片上变压器设计的正确性。     

酶-底物反应体系的特征参量与扩散控制反应速率间定量关系的研究——带电底物

通常的扩散控制反应理论是以球形对称反应体系为背景的,故用在计算酶与带电底物结合反应速率的最大限度时,不可能较合理地考虑各种影响反应速率的效应。而且,在现有的实验中,已出现了这样的佯谬:一些酶与带电底物结合反应的速率比按通常理论所算得的结合速率的最大限度还要大!因此,重新探讨酶-带电底物反应体系中的各种效应,就显得十分必要。为此,本文在以前工作的基础上,探讨了这种非球形对称快速反应体系的动力学特性。通过计算,给出了方向因子、力程因子与离子强度、反应物所带电荷间的定量关系,从而为酶与带电底物的结合反应提供了新的最大限度。并应用到延胡索酸酶及D-甘油醛-3-磷酸脱氢酶的反应中,解释了通常的扩散控制反应理论所不能解释的现象。此外,还探讨了非平衡定态反应体系中Brφnsted方程成立的条件。     

无线mesh网络中的信道分配问题研究

在多接口无线mesh网络中使用多信道可以减少碰撞和干扰,提高系统吞吐量。因此,合理的信道分配是无线mesh网络中多信道技术的关键。用图论理论建立信道分配数学模型以及用图着色理论研究信道分配问题是无线网络中解决信道分配问题的有效方法。因此针对无线mesh网络中多接口多信道(multi-radio and multi-channel)的特点,重点介绍了无线mesh网络中信道分配的基本理论、主要约束和图论模型等,最后提出应用图着色理论解决信道分配问题的一般途径。     

兆声清洗在GaAs PHEMT栅凹槽工艺中的应用

对GaAs赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)在栅凹槽光刻和栅凹槽腐蚀过程中光刻窗口内经常出现的一些沾污颗粒进行了分析.设计了一系列实验来分析残留在芯片上的颗粒度参数,采用4英寸(1英寸=2.54 cm)圆片模拟实际的栅凹槽清洗工艺过程,利用颗粒度测试仪分别测试了4英寸圆片表面不同粒径的沾污颗粒数在喷淋和兆声清洗两种条件下的变化情况.比较两种清洗结果,兆声清洗方法可以有效去除栅凹槽颗粒沾污.在实际流片过程中,采用兆声清洗方法大幅降低了源漏间沟道漏电数值,同时芯片的直流参数成品率由之前的75％提高到了93％.     

热阻降低39.5%的4英寸金刚石基GaN HEMT工艺

散热问题是制约GaN大功率器件应用的瓶颈,为解决这个问题,研究人员将注意力集中到金刚石上的GaN结构(金刚石基GaN)。研发了一种将4英寸(1英寸=2.54 cm)GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)转移到金刚石上来提高散热效率的工艺技术。首先采用GaN HEMT标准工艺制备GaN器件,然后将衬底进行剥离去除,接着将纳米级粘接层沉积到GaN和多晶金刚石的表面,最后通过4英寸晶圆级键合工艺,将去除衬底的GaN HEMT转移到金刚石上。测试结果显示,转移后的GaN HEMT的热阻较转移前热阻降低了39.5%,6.5 W总耗散功率下GaN HEMT的结温降低了33.77℃。而且,在48 V下对转移后的GaN HEMT进行了测试,结果表明,栅源电压1 V下漏极电流密度为0.93 A/mm,频率3.5 GHz下输出功率密度达到10.45 W/mm,功率附加效率(PAE)为51%,增益为13.9 dB。     

基于平面肖特基二极管的平衡式亚毫米波倍频器芯片

基于标准的平面肖特基二极管单片工艺设计了一款平衡式亚毫米波倍频单片集成电路.依据二极管实际结构进行电磁建模,提取了器件寄生参数,并与实测的器件本征参数相结合获得了二极管非线性模型;依据该模型,采用平衡式拓扑结构以实现良好的基波抑制,设计了三线耦合巴伦电桥,并与肖特基二极管集成在同一芯片上,实现了单片集成,提高了设计准确...     

InGaP/GaAs HBT器件的制备及其特性

采用在发射区台面腐蚀时保留InGaP钝化层和去除InGaP钝化层的方法制备了两种InGaP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)器件,研究了InGaP钝化层对HBT器件基区表面电流复合以及器件直流和射频微波特性的影响.对制备的两种器件进行了对比测试后得到:保留InGaP钝化层的HBT器件最大直流增益(β)为130,最高振荡频率(fmax)大于53 GHz,功率附加效率达到61％,线性功率增益为23 dB;而去除InGaP钝化层的器件最大β为50,fnax大于43 GHz,功率附加效率为57％,线性功率增益为18 dB.测试结果表明,InGaP钝化层作为一种耗尽型的钝化层能有效抑制基区表面电流的复合,提高器件直流增益,改善器件的射频微波特性.     

一种用于砷化镓晶圆级堆叠的工艺技术

随着电子系统对多功能、小型化要求的不断提高，将数字控制电路、移相器、低噪声放大器等砷化镓微波集成电路（MMICs）进行3D集成是解决问题的方向。为此，设计具有数百个互连点的孔链测试结构模拟上下两层电路互连，采用砷化镓穿孔技术将正面互连压点转移到背面，研究适用砷化镓薄片的晶圆级键合技术，开发出两片式砷化镓面对背的晶圆级堆叠工艺技术，堆叠成品率达到90%以上。利用这项工艺，将砷化镓数字电路堆叠到低噪声放大器芯片上，形成了Ka波段幅相多功能电路，测试在32～38 GHz频段内，接收端增益大于21.5 dB，噪声小于4 dB，移相精度小于4°；发射端增益大于23 dB，输出功率大于25 dBm（输入功率10 dBm），移相精度小于4°。