电子束缩小投影曝光系统的掩模研究

介绍了用于电子束投影曝光系统中薄膜加散射体掩模的制备、性能和使用情况。     

缩小投影电子束曝光系统的成像反差

结合原理说明了理想条件下的照明束与角度限制光阑可获得最佳成像反差，详细讨论了照明束与角度限制光阑处于非理想情况时对成像反差的影响及理想条件的调试方法。     

缩小投影电子束曝光原理论证机

系统阐述了缩小投影（或纳米投影）电子束曝光技术的原理,以及如何将一台透射电镜改装为原理论证机的主要过程。内容包括机械结构的变动、电子光路的选择、调焦及曝光、成像系统的逐步演化、实验曝光结果与结论。