一种新型有机电致微腔结构的双模发射

采用结构Glass／DBR／ITO／NPB／NPB：Alq／Alq／Al制作了有机微腔电致发光器件。将空穴传输材料与发光材料以一定比例混合作为发光层，为了便于对比，在不改变有机层的膜厚的情况下同时制作了传统的异质结微腔器件，发现两种器件的发光光谱有很大不同，器件的复合效率与传统的异质结器件相比也得到了很大提高，这是因为将两种有机材料混合能消除界面势垒，提高器件的复合效率，从而提高了器件的发光性能，实现了微腔双模发射，且两个模式的半峰全宽分别为8nm和12nm。通过进一步优化器件结构可以实现微腔白光发射。     

有机电致发光现状和发展趋势

有机电致发光是近年来发展起来的一种具有极大竞争力的固体化平板显示技术,目前已经报道的有机发光二极管最大流明效率已达311m/W,最高半寿命已超过100,000小时,本文对有机发光管理的工作原理,材料特点和老化机理进行了探讨,并分析了该技术在商业显示方面的应用前景。     

用有机混合物的方法优化微腔器件性能

制作了一种新型的有机电致微腔器件,将两种有机材料混合作为发光材料,通过简单改变两种材料的重量比,实现了微调腔长的目的,认为通过合理地调节两种材料的配比,可以实现微腔发光颜色的调节。两种配比的微腔器件均发出半宽很窄的双模发射(8和12 nm),而且调节两种材料的比例后所得光谱的谐振模式和强度均得到改变,但半宽却不变。另外,对比了传统异质结结构微腔和新型微腔的电流电压特性,发现通过将空穴传输材料和发光材料混合后,器件的开启电压得到了很大程度的降低(从7V降到4V)。     

808 nm大功率半导体激光器腔面膜的制备

采用等离子体辅助电子束蒸发方法在808 nm大功率量子阱半导体激光器腔面设计镀制了HfO₂/SiO₂系前后腔面膜. 用直接测量法测量并比较了各种常用膜系的相对损伤阈值. 增透膜的反射率为12.2％,高反膜的反射率为97.9％. 对于100 μm条宽、1000 μm腔长的条形结构通过器件测量结果是出光功率提高79％、外微分量子效率提高80％、功率效率由没镀膜之前的22.2％提高到镀膜之后的39.8％.     

有机微腔红光发射器件

通过将微腔引入有机掺杂红光OLED器件,获得了半宽(FWHM)仅为27 nm的纯红光发射,器件色度为(0.6497,0.3488).另外通过改变基质材料,制作了不同的掺杂器件,发现除了器件的发光颜色有了很大变化外,器件的性能也有很大不同,采用宽能隙材料作为基质的器件无论在J-V特性还是在器件效率上均不如窄能隙材料器件,说明在选基质材料时,除了一些必须考虑的因素外,材料的能隙也是决定器件性能的一个重要指标.     

有机/聚合物激光

1 引言 激光是通过辐射的受激发射进行光放大的简称。自20世纪60年代发展到现在,其应用几乎遍及所有工业、军事、科技、娱乐、通信等领域。激光器的工作波长覆盖了从X射线、紫外、可见光到红外、远红外的宽光谱范围。激光器的输出功率从光通信、光存储应用方面的毫瓦、瓦量级,直到     

氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜

采用等离子辅助电子束蒸发技术制备高纯金属锌膜，然后在氧气气氛下经高温热处理得到氧化锌的多晶薄膜。X射线衍射谱的结果表明：未经热氧化样品由金属锌和氧化锌纳米晶组成，随着热氧化温度的升高氧化锌纳米晶粒长大，形成纳米氧化锌多晶薄膜且薄膜结晶性增强；光致发光谱表明：样品均具有较强的紫外自由激子发光。由于未经热氧化样品中氧化锌纳米晶粒较小，具有较强的量子限域效应，因而经高温氧化后样品发光峰有较大红移。随着热氧化温度的进一步升高，束缚激子发射随热氧化温度升高而减弱，且发光峰位随热氧化温度升高出现蓝移；变温光致发光谱表明：紫外发光主要来自自由激子发射。     

高功率InGaAs量子阱垂直腔面发射激光器的研制

采用AlAs氧化物限制工艺实验制备了衬底出光的高功率大出光窗口（直径为300 μm）InGaAs/GaAs量子阱垂直腔面发射半导体激光器,实现了器件室温准连续工作（脉冲宽度为50 μs,重复频率为1000 Hz）,并对器件的伏安特性、光输出特性、发射光谱,以及器件的远场发射特性等进行了实验测试.器件阈值电流为460mA,器件的最大光输出功率为100mW,发射波长为978.6nm, 光谱半功率全宽度为1.0 nm,远场发散角小于10°,垂直方向的发散角θ_⊥为8°,水平方向的发散角θ_∥为9°,基本为圆形对称光束.     

大功率底发射VCSEL出光窗口增透膜的研究

在大功率垂直腔面发射激光器(VCSEL)出光窗口镀制了HfO2增透膜,其透过率达到99.9%.对镀膜材料以及透过率方面进行了比较,介绍了增透膜的制作过程.镀膜后直径为600μm的底发射VCSEL获得了室温连续输出功率为1.63 W,功率转换效率提高了6%.     

用于大功率CO_2激光加工机的高质量薄膜元件

在10.6μm高能激光器中使用较理想膜料是ZnS,ZnSe和ThF_4,我们用BaF_2掺杂CeF_3,SrF_2和CaF_2制成了类玻璃态薄膜,用来代替放射性较强的ThF。为了减小吸收和界面电场强度,我们用规整膜系进行设计,研制出(1)反射率分别为99.2%,99.5%,99.75%和99.85%四种高反膜,其中硅基底反射镜(R为99.55%)抗激光损伤)10~9W/cm。(2)圆偏振膜的反射率为99.35%(7°入射),位相延迟为90+4°