微直流伺服电机在光刻机中的应用研究

从实际应用出发,介绍了微直流伺服电机在光刻机中的选型分析。根据具体负载要求,确定所需电机相应的参数,从而得到能满足驱动需求的最优化的电机。     

双面光刻机运动控制系统设计分析

针对双面光刻机运动控制需求,提出模块化的设计方案,重点分析了对准工作台PID 调节方法,实现了高动态响应、高精度运动控制。     

光刻机自动对准工作台控制系统设计

光刻机自动对准工作台是光刻机的核心执行功能部件,直接影响着光刻机找平、锁紧、微分离、自动对准执行等关键功能动作;结构设计紧凑精巧,包含复杂气动控制和高速、精密运动控制。运动控制的精度决定着对准精度,目前接触接近式掩模光刻机的对准精度达到0.5μm,因此工作台运动控制的精度应小于0.5μm。     

非接触式预对准系统及控制技术研究

高精度高效率的预对准系统是现代集成电路（IC）生产中实现晶圆自动传输的重要部件。介绍了预对准台的大致设计结构,分析了目前常见的找心算法以及存在的问题,进而提出新的找圆心算法。之后针对带切边晶圆片的切边方向定位算法进行了分析归纳,总结出完整的切边定位算法。     

光学光刻技术向纳米制造挺进

概述了光学光刻技术向纳米制造挺进过程中光源、光学系统、照明技术、掩模设计、抗蚀剂、光学邻近效应校正、工作台等方面的进展以及光学光刻技术在大批量生产应用中的优势,并介绍了国外开发极紫外光刻技术的技术指标,预测了光学光刻技术的前景。     

掩模光刻机中找平控制研究

基片与掩模版(或找平版)找平技术是掩模光刻机中的一个关键技术,找平的结果直接决定了光刻机的分辨率精度。找平的目的就是要实现掩模版平面和基片平面的平行,实现基片与掩模版在移动到设定的一个微小间隙后,基片上的各点到掩模版的距离相同,从而保证基片上图形的一致性,提高设备的分辨率。找平过程的控制主要在对找平的判断、压力采集反馈、找平压力的控制等方面。