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1.
大气等离子体加工反应过程中,等离子体发生装置的热稳定过程对去除率有直接影响,CF4是化学反应中活性F*原子的提供者,O2是重要的辅助气体。为了寻找这三者对大气等离子体加工反应过程的影响规律,采用大气等离子体加工系统进行加工、光谱仪监控等离子体反应过程的活性F*原子的光谱变化。实验结果表明,在大气压等离子体加工系统中: 热稳定后,活性F*原子强度基本不随时间变化;随着CF4含量的增加,F*原子谱线轮廓发生了自吸收现象,这说明采用光谱法研究CF4含量对活性F*原子含量的影响是不完全准确的;由于O2易和CF4解离的中间产物反应,抑制活性粒子重新组合,因此一定范围内随着O2含量增加,活性F*原子增加。  相似文献   
2.
We investigate reactive fluorine atom spectroscopic characterization in atmospheric pressure of He/SF 6 plasma using atomic emission spectrometry. As input radio frequency (RF) power levels are raised from 140 to 220 W, the emission spectra of 685.60 (3p4D→3s4P transition) and 739.87 nm (3p4P→3s4P transition) increase significantly. Moreover, an optimal value of SF 6 volume concentration in the production of fluorine radicals, which is 0.8% is achieved. Addition of certain amounts of O 2 into He/SF 6 plasma results in the promotion of SF 6 dissociation. Emission intensities of fluorine atoms show the maximum at the O 2 /SF 6 ratio of 0.4.  相似文献   
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