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H+辐照前后W涂层表面的XPS分析 总被引：1，自引：0，他引：1
对离子束混合技术在不锈钢基体上沉积的W膜进行了H+辐照前后的XPS分析,研究了H+辐照对W的结合能的影响.分析结果表明,沉积的W膜中除了单质钨外,还有部分钨的氧化物,H+辐照结果表明,H+的辐照使钨的结合能向低能方向偏移;钨的氧化物有所减少,说明污染的氧化物在一定程度上被择优溅射掉. 相似文献
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在不锈钢基体上采用离子束混合技术及电子束处理方法进行Mo薄膜沉积,沉积后的试样再进行氢离子注入.分别对氢离子注入前后的样品进行500~4000波数范围内IR分析,研究了氢离子辐照前后涂层的红外光谱振动吸收峰的变化,对Mo涂层的抗氢机理进行了探讨. 相似文献
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