铀与表面铝薄膜界面反应的俄歇电子能谱分析

主要利用俄歇电子能谱（AES）研究了室温下铀、UO2与表面铝薄膜之间的界面反应，以及退火对界面反应的影响。在俄歇电子能谱仪超高真空室中，利用Ar^＋枪溅射铝靶，使其分别逐步沉积到铀基体与UO2表面上，然后利用电子枪适时采集表面俄歇电子能谱，研究膜基界面反应。     

铀与UO2表面铝薄膜生长行为的俄歇电子能谱分析

主要利用俄歇电子能谱（AES）原位分析了室温下铀与UO2表面铝薄膜的生长行为。在俄歇电子能谱仪超高真空室中，利用Ar^＋枪溅射铝靶，使其沉积到铀基体上，然后利用电子枪适时采集表面俄歇电子能谱，原位分析铝薄膜的生长过程。在UO2表面沉积铝膜时，先往真空室中充入氧气，将清洁铀表面氧化成UO2，然后再溅射铝靶原位沉积制备铝薄膜。     

四苯乙烯衍生物的合成、性能及其对铀酰离子的荧光识别

聚集诱导发光(AIE)效应在铀酰离子痕量检测方面具有广阔的应用前景。本文以四苯乙烯(TPE)为母体,设计合成了一种TPE席夫碱类化合物T2,并对其溶液态和聚集态的光学性质进行了表征。结果表明,T2具有AIE特性。并且,当向T2中加入铀酰离子后,体系荧光发射峰从540nm蓝移到500nm,肉眼可见由黄色到黄绿色的明显颜色变化,表明化合物T2可用于检测水体中的铀酰离子。     

铀氢真空原位反应

利用俄歇电子能谱（AES）和二次离子质谱（S1MS）分析了金属铀试样在H2气氛中的初始表面反应。虽然，将铀在H2气氛中加热，可制备出UH3化合物，在523K时该反应是非常迅速的，并能使金属完全反应，由于H2是非常小的分子，它容易透过氧化膜扩散进入金属体内从而形成UH3。但是，UH3在高温是不稳定的，当温度升高后，UH3将分解成U＋3／2H2，而H2会从铀中扩散出来。