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1.
为探索钨合金柱形弹超高速撞击水泥砂浆靶的侵彻深度随撞击速度变化规律,利用二级轻气炮开展了?3.45 mm×10.5 mm的克级93 W钨合金柱形弹以1.82~3.66 km/s的速度撞击水泥砂浆靶的实验,利用CT图像诊断技术获得了侵彻深度和残余弹长随撞击速度的变化规律,对超高速撞击过程进行了数值模拟,结合数值模拟结果进一步分析了超高速撞击物理过程。结果表明:(1)超高速撞击条件下成坑是弹坑+弹洞型;(2)侵深-速度曲线呈现先增大后减小的现象,在弹速2.6 km/s附近存在侵彻深度极大值,约为8.5倍弹长,相对于中低速侵彻的深度并没有显著优势。(3)通过基于数值模拟得到的弹靶界面压力时程曲线将侵彻过程分为4个阶段,其中准定常侵彻阶段和第三侵彻阶段是决定总侵深的主要阶段。(4)随撞击速度增加,弹体侵蚀逐渐剧烈,此时准定常侵彻阶段的侵深变化不大,而第三侵彻阶段中的刚体侵彻部分大幅降低,导致总侵深大幅降低,使总侵深曲线呈现先增大后减小的现象。  相似文献   
2.
为了测量柱形爆炸容器的动态周向大变形历程,开发了应变丝测量技术。选用性能良好的合金丝沿爆炸容器周向固定,容器膨胀变形驱动合金丝同步伸长,配合适当的电路,检测合金丝的电阻变化,从而获得容器的变形历程。在钢筒的中心进行了120 g TNT当量球形装药下的爆炸加载实验,获得了峰值超过20%的钢筒周向变形历程。测量结果与实验后钢筒变形实测结果及数值模拟结果吻合较好。  相似文献   
3.
李运良  方炎 《光散射学报》2000,12(4):246-250
本文研究了 Rh B分子的 539.0 nm和 572 .5nm两荧光峰在表面增强活性银胶颗粒表面上的增强和淬灭效应 :在同一分子体系中同时观察到 530 .0 nm荧光峰的增强和 572 .5nm荧光峰的淬灭 ,并对其进行了理论计算。结果表明这两个荧光峰的增强或淬灭主要取决于局域电磁场增强和分子到金属表面无辐射能量转移衰减过程的竞争效应。当满足吸收共振增强和辐射共振增强时 ,荧光被增强 ;反之 ,荧光被淬灭。计算表明 ,荧光增强因子最高为 1  相似文献   
4.
自组装双分子基传感器的光电子学及光谱学研究   总被引:1,自引:1,他引:0  
本文综述了近年来在双分子层脂膜 ( BLM)特性、制备技术及研究方法等方面的新进展。同时着重介绍了膜体系的光电子学与光谱学特性及其在不同领域的应用 ,以及我们在该领域所开展的相关工作  相似文献   
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