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SiO2薄膜的液相沉积及特性 总被引:1,自引:0,他引:1
将基片浸入到低温SiO2过饱和的六氟硅酸(H2SiF6)溶液中,在其表面上沉积SiO2薄膜。这种新的生长工艺称之为液相沉积(LPD)。本文着重介绍LPD工艺及LPD SiO2薄膜的特性。 相似文献
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将基片浸入到低温SiO2过饱和的六氟硅酸(H2SiF6)溶液中,在其表面上沉积SiO2薄膜,这种新的生长工艺称之为液相沉积(LPD)。本文着重介绍LPD工艺及LPDSiO2薄膜的特性。 相似文献
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