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利用脉冲激光沉积(PLD)法在氧压为16 Pa、衬底温度为400~700 ℃时,在单晶Si(100) 衬底上制备ZnO薄膜,并通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)谱和光致发光谱对制得的薄膜样品进行表面形貌、结构特性和发光性质研究。其中通过原子力显微镜对样品的二维、三维以及剖面线图进行了分析。结果表明衬底温度700 ℃时得到的薄膜样品表面较均匀致密,晶粒生长较充分,结晶质量较高,相对发光强度高。控制氧压为5.7 Pa,在衬底温度为600 ℃,沉积时间分别为10,20,45 min制备ZnO薄膜样品;利用原子力显微镜对样品进行表面形貌观察,得知只有沉积时间足够长才能使薄膜表面晶粒充分生长。 相似文献
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具有各向异性外延应变的La0.67Ca0.33MnO3/NdGaO3(001)外延薄膜,经过高温后退火处理可以诱导出电荷有序相,而外延应力场对电荷有序相的诱导机理有待进一步阐明.本文中,我们在La0.67Ca0.33MnO3薄膜上进一步外延SrTiO3覆盖层,以期从不同方面改变薄膜的应变状态.我们发现薄膜上方的应力钳制可改变来自衬底的各向异性应变,从而明显减弱薄膜中的电荷有序相.因此,除衬底外,外延覆盖层同样也可影响薄膜的应变状态、结构和物性. 相似文献
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