γ 射线辐照缺陷对单层 MoS2 光谱学性质的调控研究

围绕着过渡金属二硫族化合物( 简称 TMDs) 材料的研究在近十年来一直是相关领域的热点. 本文利用γ射线辐照, 在单层 MoS2 中引入辐照缺陷, 利用光谱学手段结合原子力显微术研究辐照缺陷对单层 MoS2 光谱性质和能谷特性的影响. 结果表明,γ 射线成功地在单层 MoS2 中引入了辐照缺陷, 辐照缺陷对其室温拉曼谱和光致发光谱(photoluminescence, 简称PL) 影响较小, 但对其低温PL 特性有显著影响, 并且缺陷态束缚激子呈现出与自由激子截然不同的谷极化特性; 相较于自由激子, 缺陷态束缚激子的谷极化度对外加磁场的变化更为敏感, 并在面外磁场>2 T 时达到饱和, 保持在约30% .     

铜箔碳掺杂对化学气相沉积生长的六方氮化硼中含碳色心的高效制备及其调控

缺陷和掺杂对材料的力学、 电子和光学性能均具有重要影响. 六方氮化硼(Hexagonal Boron Nitride, hBN)由于具有a6 eV 的宽带隙, 其中的点缺陷可以在带隙内产生发射波长覆盖近紫外-近红外波段的室温稳定发光的深能级色心, 是量子光源等光学的理想载体. 近年来的实验和理论研究表明, 碳缺陷是h-BN 可见光波段单光子发射的主要可能来源之一; 然而, 当前对h-BN 中碳缺陷的有效制备和精确调控仍存在挑战. 本文报道了一种有效方法, 通过在化学气相沉积(Chemicalvapordeposition, CVD) 过程中预先控制用于催化生长h-BN 的铜箔衬底中的碳含量, 制备得到了不同密度的零声子发射(Zero-phononlines, ZPL)波长位于626±3 nm 的色心; 此外, 我们还观察到气氛退火对色心发光显著的调控作用. 该色心优良的单色性和可调控性有助于推动基于h-BN 的量子光源和光子学器件的潜在应用, 对理解h-BN 中碳缺陷的形成亦具有重要意义.