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利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法,在Si衬底上外延生长ZnO薄膜。为了改善氧化锌薄膜的质量,首先在Si衬底上生长低温ZnO缓冲层,然后再生长高质量的ZnO薄膜。通过XRD、SEM、光致发光(PL)光谱的实验研究,发现低温ZnO缓冲层可有效降低ZnO薄膜和Si衬底之间的晶格失配以及因热膨胀系数不同引起的晶格畸变。利用低温缓冲层生长的ZnO薄膜的(002)面衍射峰的强度要比直接在Si上生长的ZnO薄膜样品的高,并且衍射峰的半高宽也由0.21°减小到0.18°,同时有低温缓冲层的样品室温下的光致发光峰也有了明显的增高。这说明利用低温缓冲层生长的ZnO薄膜的结晶质量和光学性质都得到了明显改善。 相似文献
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這篇文章所給出的材料可以作爲中學數學小組的作業,在這篇文章裹總共給出了24個問題。問题1.試用兩脚張開的距離等於a的圓规和直尺作線段a/2,a/3,…,a/n。我們作半徑爲a的圆周並且在這個圓周上從任意一點A_1起截取兩點A_2和A_3:A_1A_2=a和A_2A_3=a,再作直線A_1OA_4,A_2OA_5及A_3OA_6。點A_1,A_2,A_3,A_4,A_5,A_6,是一個正六角形 相似文献
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