Microstructure of a-SiOx:H

A set of a-SiO_x:H (0.52 <x< 1.58) films are fabricated by plasma-enhanced-chemical-vapor-deposition (PECVD) method at the substrate temperature of 250°C. The microstructure and local bonding configurations of the films are investigated in detail using micro-Raman scattering, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR). It is found that the films are structural inhomogeneous, with five phases of Si, Si₂O:H, SiO:H, Si₂O₃:H and SiO₂ that coexist. The phase of Si is composed of nonhydrogenated amorphous silicon (a-Si) clusters that are spatially isolated. The average size of the clusters decreases with the increasing oxygen concentration x in the films. The results indicate that the structure of the present films can be described by a multi-shell model, which suggests that a-Si cluster is surrounded in turn by the subshells of Si₂O:H, SiO:H, Si₂O₃:H, and SiO₂.     

矩孔金属光栅矢量模式理论的数值计算

根据矩孔金属光栅的矢量模式理论，计算了不同入射方向，波长及偏振态情况下衍射场的分布，研究了不同光栅结构对衍射效率，偏振态变化的影响；同时，根据实际需要，加工制作了一批不同深度的矩孔光栅样品，进行了实验测量，并将计算值与实验值进行了比较，两者基本相符。     

EXISTENCE AND UNIQUENESS OF LIMIT CYCLE FOR A CLASS OF (2n+1)TH ORDER DIFFERENTIAL SYSTEM

In this paper we consider the problem ofllrmt cycles for thefollowing system【&一y＋6x＋a旷＋a。xy＋a。xy‘＋6xv‘”,(门)!i二 X( 一 by)．Ssstem(1)with k二 b二 0 was studiedin P叩er[1];Ifk 4 0 by transformation:y三 x;V二告;d,二 kdt,system(1)。二。can be trmslated Into the form studiedIn p。per IZ]三 System(1)With口1二 k二 0 W。S Studied ill paper k3]．Ifi System(1;SllPPOSe th。t:(1 ＞2 Is。11 lllteger,k / 0*d 6 / oi(2)。1。2 ＋。5 2 0,this assumption Is the same as that In paper[1];(3)w…     

均匀分层介质中标准矢量波函数的构成

研究了在均匀分层介质中构成标准矢量波函数的必要条件。研究结果表明在均匀分层介质中构成标准矢量波函数一般需遵循Morse-Feshbach判据外，领示矢量只能选取与折射率变化方向一致的那根坐标轴单位矢量。但在某些特定的条件下，对领示矢量的选取条件可以放宽为只需遵循Morse-Feshbach判据即可。     

缬草根化学成分的研究

本文报道了湖南花坦县产的缬草根的化学成分，用气相色谱－色谱－计算机联用和波谱技术鉴定了缬草根中的４４个组分，其中乙酸里哪醇酯，２－蒈烯，马拶铃烯，瓦伦烯，香橙烯，愈创木烯，异尼醇，乙酸金合欢酯，邻苯二甲酸二异辛酯，６，１３－二甲基－十四烷酸和２－甲基十六烷酸甲酯等化合物是在缬草根中首次发现的，对缬草根中的氨基酸和微量元素也进行了测定。     

掺铒a-SixC1-x-H薄膜的发光特性

用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）的方法，以固定的氢气（H2）流量和不同的硅烷（SiH4）和甲烷（CH4）流量比沉积了一系列的氢化非晶SiC（a-Si，C1-x-H）膜。用这种宽带隙的a-SixC1-x-H材料作为掺铒的基体材料，通过离子注入的方法得到掺铒的a-SixC1-x-H（a-SixC1-x-H：Er）膜。注入以后的样品经过不同温度的退火。用X射线光电子能谱（XPS）、红外吸收光谱（IR）、拉曼散射谱（Raman）等技术研究不同的SiH4／CH4流量比和退火温度对a-SixC1-x-H：Er发光强度的影响。结果表明，高温退火引起了膜中C的分凝，对饵的发光是不利的。通过低温和室温下铒发光强度的比较，表明这种材料具有较弱的温度猝灭效应。     

硅胶键联MPc的制备及其在氧活化中的作用

过渡金属酞等配合物（MPC）用手均相液相氧化中作催化剂已有不少报导，象许多均相催化剂一样，MPC用于均相反应存在着难于从反应体系中分离出来的问题．把均相配合物催化剂固载在无机氧化物如硅股或有机高分子载体上是解决这一问题的一种方法．我们曾尝试把MP。固载在分子筛载体和硅胶载体上，并用ESR研究其对O2的活化作用[1，2]．本文报导MPc通过共价键键联固载在SiO2上，并研究其对O2的活化作用．1实验部分1．1试剂HSIC13为日本东京化成株式会社产品，二级试剂·发烟硫酸（SO。质量分数大于20％）为分析纯试剂．PCl5为化学纯试…     

数字喷墨印刷关键技术及其实现

经过20多年的完善与发展，喷墨技术已经成为大幅面广告印刷行业的主要印刷技术。随着图书按需印刷需求的快速扩张以及国家环保政策的迅速落地，喷墨印刷技术作为一项高效环保的数字化印刷技术，得到越来越高的关注，业内普遍认为喷墨印刷技术将是数字化印刷的必然发展趋势。然而与已经成熟的多Pass喷墨印刷设备不同，单Pass喷墨印刷设备在数据带宽、数据在线重构、高精度同步控制、喷嘴在线补偿等方面有着极高的技术要求。本文首先简要介绍了喷墨技术，然后针对单Pass喷墨印刷设备需要解决的技术问题提出了相应的解决方案。依据本文技术设计的单Pass书刊喷墨印刷机已经投放市场，并且获得了用户的普遍认可。     

CO在YBa2Cu3Ox薄膜上吸附与加氢的研究

ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏｘ（ｘ＝６－７）薄膜被合成在ＹＳＺ基底上，用ＦＴＩＲ，ＸＰＳ，ＸＲＤ等手段原位研究ＣＯ在薄膜上的吸附及加氢行为。ＣＯ吸附在Ｃｕ位置上，与ＹＢＣＯ体相中的Ｏ作用，生成表面ＣＯ２或－ＣＯＯ基团，导致ＹＢＣＯ中生产氧空位，使ＹＢＣＯ发生昌型转变，Ｃｕ＾２＋被还原为Ｃｕ＾＋或Ｃｕ＾０．ＹＢＣＯ中的氧空位有利于ＣＯ、ＣＯ２及Ｈ２的吸附。ＣＯ、ＣＯ２在ＹＢＣＯ膜上的加氢产物为ＣＨ３ＯＨ、ＣＨ３