V型夹层炸药对射流干扰的数值模拟

采用三维有限元程序(LS-DYNA)模拟了射流侵彻放有V型夹层炸药靶板的过程,并与无V型夹层炸药等情况进行了对比。V型夹层炸药爆炸后,运动的两组面板和背板对射流有严重的干扰和切割效应,导致射流偏转、弯曲、着靶点分散,使射流的侵彻深度下降约30%～90%,V型夹层炸药结构干扰程度随入射角度的增大而呈递增趋势。V型角的变化对射流的侵彻深度干扰作用不明显。