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晶体学
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1.
温梯法生长的Ti:Al2O3晶体的光谱分析
章佶
孙真荣
王祖赓
司继良
王静雅
杭寅
徐军
《人工晶体学报》
2005,34(4):657-660,681
本文研究了不同掺Ti^3+浓度对温梯法生长的Ti:Al2O3晶体吸收光谱、荧光光谱和X射线衍射光谱的影响。根据吸收光谱提出了一个色心模型。对比了样品各处420nm荧光谱,发现掺Ti^3+浓度越大,该处荧光强度越弱,同时解释了420肿处荧光峰的起源。对比了样品各处720nm处的荧光谱,发现掺Ti^3+浓度越大,该处荧光强度越强。X射线衍射谱(XRD)表明,衍射峰强度随掺Ti^3+浓度的增大而逐渐增强。
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