超声化学法制备高岭土/二甲亚砜插层复合物的研究

采用与传统方法不同的超声化学法,用二甲亚砜(DMSO)对高岭土进行插层,大大缩短了处理时间,而且达到了较理想的插层效果。采用X -衍射研究插层间距,发现硅酸盐片层间距从0.714 nm增加至1.123 nm左右,插层率为90.9%,并对不同超声条件对插层率的影响进行了探讨。同时用FT-IR和TG/DTA等方法对插层机理进行了分析和研究。