一种可以正负互用的水型化学增幅抗蚀剂的研究

研究了一种由甲酚醛树脂、六甲氧基甲基三聚氰胺(HMMM)、六氟磷酸根二苯碘盐和光敏剂组成的水型紫外化学增幅抗蚀剂,发现二苯基碘盐不仅可以作为光敏产酸物,而且可以作为阻溶剂.用碘盐作为光敏产酸物,光解产生的酸可以在中烘时催化甲酚醛树脂与HMMM的交联反应;用氢氧化钠-乙醇水溶液显影可以得到负性光刻图形;采用碘盐作为阻溶剂,可阻止非曝光区的胶膜溶解在显影液中,用稀的氢氧化钠水溶液显影可以得到正性光刻图形.通过优化后的光刻工艺条件,采用不同的显影液和光刻工艺流程,实现了同一光致抗蚀剂的正负性反转,并分别得到负性和正性光刻图形.     

光敏聚酰亚胺抗蚀剂的研究

光敏聚酰亚胺是近20年来随着微电子工业的发展而迅速崛起的一类新型高分子材料,它广泛应用于微电子领域,在航空航天等尖端工业中也有着重要用途.预亚胺化可溶性负性光敏聚酰亚胺光致抗蚀剂在简化光刻工艺,增强耐热性,提高图形留膜率等方面具有诱人的前景[1～2].     

甲酚醛树脂—HMMM负性水型化学增幅抗蚀剂的研究

本文利用二苯碘 盐为光敏产酸物,吩噻嗪为敏化剂,配制了一种甲酚醛树脂——六甲氧基甲基三聚氰胺(HMMM)负性水型紫外化学增抗蚀剂,并研究了光敏产酸物和增感剂对体系光敏性的影响及体系中存在的拉平效应,通过优化后的光刻工艺条件得到了分辨率为1.24μm的光刻图形。