菁染料和份菁染料的合成及其溶液的光稳定性研究

利用UV-Vis吸收光谱仪和光化学反应器,研究了菁染料和份菁染料的光降解动力学.研究结果表明,染料在乙腈溶液中的光褪色反应遵循假一级或零级动力学衰减.与相应的份菁染料相比,携带正电荷的菁染料具有相对较好的光稳定性.     

菁染料光稳定性研究进展

菁染料的研究已有一百多年的历史,其最重要的用途是作为光谱增感剂应用于卤化银照相乳剂中,扩大卤化银微粒的感光范围并提高感光度[1].近年来又开展了在其它领域的应用研究,发现它的许多特殊用途。     

含苝酰亚胺和8-羟基喹啉双官能团的金属络合物型发光材料

应用Gabriel反应替代传统的亚酰胺缩合法．成功地合成了一种含苝酰亚胺发色团的金属络合物型发红光材料(Pery-q)3Al。在其结构中引入电子传输功能单元8-羟基喹啉铝(Alq3)。在(Pery-q)3Al体系中,由于单线态之间的能量转移。导致Alq3单元的荧光发生了严重的淬灭。     

含二茂铁基偶氮染料的光稳定性研究

利用UV-Vis吸收光谱仪和光化学反应器研究了含二茂铁基偶氮染料及相应的偶氮染料溶液的光降解动力学.在溶液中,它们的光降解反应遵循零级动力学模型.与相应的偶氮染料相比,含二茂铁基的偶氮染料溶液具有较好的光稳定性.这表明,在其分子内存在着有效的从偶氮染料母体到二茂铁基团的分子内三重态-三重态能量传递,上述过程降低了偶氮染料激发三重态的生成,避免了染料的过早降解,提高了其稳定性.     

新型含二茂铁基螺噁嗪类光致变色化合物的合成及其光谱研究

合成了一种新的含二茂铁基螺噁嗪类光致变色化合物，并研究了其吸收光谱和荧光光谱。发现在分子内引入二茂铁基团提高了热不可逆性，发生光致变色反应前后化合物结构的不同对其荧光特性影响很大。     

含⊥酰亚胺和8-羟基喹啉双官能团的金属络合物型发光材料

应用 Gabriel反应替代传统的亚酰胺缩合法 ,成功地合成了一种含⊥酰亚胺发色团的金属络合物型发红光材料 (Pery- q) 3 Al,在其结构中引入电子传输功能单元 8-羟基喹啉铝 (Alq3 )。在 (Pery- q) 3 Al体系中 ,由于单线态之间的能量转移 ,导致 Alq3 单元的荧光发生了严重的淬灭     

新型双发色团固体激光染料薄膜的光稳定性研究

利用UV-Vis吸收光谱仪和光化学反应器研究了新型双发色团固体激光染料薄膜的光降解动力学.研究结果表明:双发色团固体激光染料薄膜的光褪色反应遵循假一级动力学衰减.在PRNAM系列共聚物(N-烯丙基-若丹明1、N-[(2-丙烯酸基)乙基]-1,8-萘酰亚胺和甲基丙烯酸甲酯的共聚物)中萘酰亚胺基团通过聚合物碳链与若丹明基团的氮原子相连;而在PRNM系列共聚物(若丹明1的烯丙基酯、N-[(2-丙烯酸基)乙基]-1,8-萘酰亚胺和甲基丙烯酸甲酯的共聚物)中则是与若丹明基团的酯基相连.PRNAM系列共聚物的光稳定性优于PRNM和PRM(若丹明1的烯丙基酯和甲基丙烯酸甲酯的共聚物)系列的光稳定性.     

菁染料和份菁染料溶液的光降解机理的研究

利用UV-Vis吸收光谱仪和光化学反应器,研究了菁染料和份菁染料溶液的光降解动力学,认为染料在乙腈溶液中的光褪色反应服从假一级或零级动力学.利用GC/MS光谱仪检测了染料的光降解产物.与相应的份菁染料相比,携带正电荷的菁染料具有相对较好的光稳定性.研究结果表明,菁染料光降解反应的中间体可能是染料的半氧化态Dye⁺,并利用纳秒级闪光光解技术研究了Dye⁺的瞬态吸收光谱.     

菁染料和份菁染料薄膜的光稳定性研究

利用UV-Vis吸收光谱仪和光化学反应器研究了菁染料和份菁染料薄膜的光降解动力学.与相应的份菁染料相比,携带正电荷的菁染料薄膜具有相对较好的光稳定性.运用量子化学中的SCF-MO-PM3方法,全优化计算了这些染料的分子几何构型和电子结构,并解释了染料的光稳定性与其分子结构的关系.     

新型含二茂铁基螺苝嗪类光致变色化合物的合成及其光谱研究

合成了一种新的含二茂铁基螺 嗪类光致变色化合物 ,并研究了其吸收光谱和荧光光谱。发现在分子内引入二茂铁基团提高了热不可逆性 ,发生光致变色反应前后化合物结构的不同对其荧光特性影响很大