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1.
2.
3.
OLED技术被认为是最有可能取代液晶显示的全新技术,而OLED中的有机电致磷光器件是近年来的研究热点.有机电致磷光器件的发光层往往采用主客体掺杂体系,主客体分子内的能量传递是磷光发光体分子被激发的主要途径,因此选择吸收能量和传递能量好的主体材料是改进有机电致磷光器件性能的主要途径之一.文章分别以PVK和CBP作为主体材料,以磷光材料Ir(PPY)3和荧光材料Rubrene作为掺杂剂,制备了不同配比的器件,研究了主体材料和掺杂剂之间的能量传递特性.结果发现,这两种主体材料分别通过Ir(ppy)3向Rubrene传递能量是主要的能量传递机制,而且CBP作为主体时能量传递比PVK更充分.另外掺入Ir(ppy)3后的器件比不掺Ir(ppy)3的器件在相同电压下的光功率明显增强.当我们增加Ir(PPY)3的浓度时,相同电压下的光功率下降,浓度猝灭效应增强. 相似文献
4.
一种新型平板彩色显示器件的制备和光谱分析 总被引:1,自引:1,他引:0
以MEH-PPV(聚[2-甲氧基-5-(2′-乙基己氧基-对苯乙烯)])和Alq3作为发光层, 成功制备出ITO/SiO2/MEH-PPV/SiO2/Al结构和ITO/SiO2/Alq3 /SiO2/Al结构的固态阴极射线器件。通过分析SSCL光谱,认为这些高速电子激发有机材料后形成Frenkel激子。当器件两个电极之间加的电压比较低时,有机薄膜层的场强也比较低,这些激子被解离的概率很小,从而产生的是激子发光的长波发射;当器件两个电极之间加的电压比较高时,有机薄膜层的场强很高, 在有机层形成的激子大部分被解离, 解离后的电子直接跃迁至LUMO(lowest unoccupancied molecular orbit),这些电子弛豫后从LUMO能级到HOMO(highest occupancied molecular orbit )能级直接辐射跃迁, 接着重新复合发光,从而产生短波发射。制作的固态阴极射线器件可以实现全色发光, 提高发光效率和加强蓝光发射。作者可以预期所研制出的这种SSCL器件必将引发平板显示领域一场新的革命性变革。 相似文献
5.
Ga3+对Ce3+光致发光的影响 总被引:4,自引:0,他引:4
研究了Ga3+在SrS∶Ce和SrGa2S4∶Ce薄膜电致发光(TFEL)材料中的作用及其对Ce3+发光特性的影响。在SrS中掺入Ga2S3并烧结,发现Ga3+的浓度增加时,Ce3+的发光显著向短波方向移动,激发谱中对应于SrS带间吸收的激发峰相对减弱,而对应于Ce3+的基态到激发态跃迁的激发效率相对提高,并出现逐渐增强的SrGa2S4的带间吸收。Ga3+的引入使Ce3+周围的配位场发生变化,相应的能级分布有所改变,Sr2+离子性的增强和Ce3+-Ce3+相互作用的减弱对Ce3+发光特性有显著影响。 相似文献
6.
7.
采用多源有机分子气相沉积系统(OMBD)制备了CBP/Alq3有机多量子阱结构,利用电化学循环伏安特性和吸收光谱、小角X射线衍射、荧光光谱研究了量子阱的能带、结构和光致发光的特性。电化学循环伏安特性和吸收光谱的测量结果表明,CBP的最低占据分子轨道(LUMO)与最高占据分子轨道(HOMO)的位置分别为-2.74,-6.00eV,Alq3的LUMO与HOMO的位置分别为-3.10,-5.80eV,所以CBP/Alq3有机量子阱为Ⅰ型量子阱结构。小角X衍射测量显示,在小角的位置(2θ的范围在0°~3°)观察到了对应于量子阱结构的多级布拉格衍射峰,表明多层量子阱结构是有序的层状结构,界面比较完整,界面质量比较好。荧光光谱的研究结果表明,Ⅰ型量子阱结构可以有效地把能量从垒层传递给阱层,从而增强了阱层材料的发光。阱层的厚度对发光峰的位置影响很大,随阱层厚度减小,阱层材料的发光峰出现蓝移现象。并对引起发光峰蓝移的原因进行了讨论。 相似文献
8.
9.
上世纪80年代初,我负责组织我国光电显示材料和器件的研制,因而有机会认识当时正从事液晶物理研究的张树霖同志.90年代初,我培养的一个博士,在他的指导下完成了相当出色的博士后研究,这使我开始对张树霖教授所从事的低维半导体的拉曼光谱学研究工作产生了兴趣,并一直加以关注和了解. 相似文献
10.
Characteristics of pentacene organic thin film transistor with top gate and bottom contact
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High performance pentacene organic thin film transistors (OTFT) were
designed and fabricated using SiO2 deposited by electron beam
evaporation as gate dielectric material. Pentacene thin films were
prepared on glass substrate with S--D electrode pattern made from ITO
by means of thermal evaporation through self-organized process. The
threshold voltage VTH was --2.75± 0.1V in 0---50V
range, and that subthreshold slopes were 0.42± 0.05V/dec. The
field-effect mobility (μEF) of OTFT device increased with
the increase of VDS, but the μEF of OTFT device
increased and then decreased with increased VGS when VDS was kept constant. When VDS was --50V, on/off current
ratio was 0.48× 105 and subthreshold slope was 0.44V/dec.
The μEF was 1.10cm2/(V.s), threshold voltage
was --2.71V for the OTFT device. 相似文献