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电结晶制[Co/Pt]n(n≥50)超晶格的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
用电结晶法制取了「Co(2.5nm)/Pt(2.5nm)」n(n=50)超晶格,通过控制电位以控制多层膜的生长,应用了具有高空间实分解能的反射电子显微镜法直接观察Pt(Ⅲ)面上的原子台阶以及在Pt(Ⅲ)上的Co的生长方式,发现在高过电位E=-1.15下Co以三维生长方式成膜。 相似文献
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电结晶铜/钴纳米多层膜结构与磁性能研究 总被引:3,自引:0,他引:3
以n型Si(111)为基底, 在硼酸镀液体系中采用双槽法电结晶制备Cu/Co纳米多层膜, 确定了工艺条件. 用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对纳米多层膜的结构和形貌进行了表征, 显示多层膜具有良好周期性和超晶格结构. 并用物性测量系统PPMS测试了不同结构 Cu/Co纳米多层膜的磁性能. 磁滞回线表明: 不同周期数的纳米多层膜其矫顽力均较小. 巨磁阻(GMR)性能与纳米多层膜结构有关. GMR值随Co磁性层厚度增长先增大后减小, 有一极值; 随着Cu非磁性层厚度的增加GMR值发生周期性的振荡; 随周期数N的增大, GMR值先增大, 在N为60时达到了90%, 随着N的继续增加而减小, 当达到80周期时, GMR值趋于稳定. 相似文献
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