纯位相矩孔型波带板的研制及其特性测量

随着激光技术的发展,利用激光束具有高的亮度、优异的单色性和方向性的特点,使原有的光学技术有很大的突破,纯位相矩孔型波带板在激光准直仪上的应用就是一例.它对于大型机器的安装、主轴的定位、坠道的掘进等都得到一定的应用. 波带板亦称费涅耳透镜,它是根据光的衍射原理制成的.矩孔型波带板所成的十字     

镀Sn-Ni硅酸钙镁晶须对镍粉/环氧树脂屏蔽涂料性能的影响

以镀Sn-Ni硅酸钙镁晶须和镍粉作为屏蔽功能填料,以环氧树脂作为黏结剂,按照涂料制备的方法,制备了一种新型镀Sn-Ni硅酸钙镁晶须/镍粉/环氧树脂电磁波屏蔽复合涂料,并研究了镀Sn-Ni硅酸钙镁晶须对镍粉/环氧树脂屏蔽复合涂料导电性和屏蔽性能的影响。结果表明,镀Sn-Ni硅酸钙镁晶须的最佳含量为占屏蔽复合填料的5%。当涂层厚度为0.3mm时,涂层的电阻率为1.32Ω.cm,在300 kHz~1.5 GHz频段内,涂层的屏蔽效能为37.197~46.139 dB。与不含晶须的涂层相比,电阻率降低了1.08Ω.cm,屏蔽效能提高了5.385~9.854 dB。该研究为矿产资源的综合利用和电磁环境污染的综合治理提供了一种新的思路和方法。     

镁表面制备羟基磷灰石涂层方法研究

镁及其合金由于具有良好的生物学特性,成为潜在的可生物降解的植入材料;但是其低的抗腐蚀能力会导致植入失败。在镁基体表面获得羟基磷灰石(HA)涂层用以改善镁及其合金的抗腐蚀能力。以硝酸钙和五氧化二磷为前躯体,使用溶胶-凝胶法制备出羟基磷灰石,并使用旋涂法在工业纯镁表面合成羟基磷灰石(HA)涂层。样品利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)进行了表征,并探讨了热处理温度对涂层的影响以及涂层的生成机理。     

Sialon 材料的合成及其反应机理研究进展

对Sialon的合成方法和相应的反应机理的研究成果进行了综述,并重点介绍了天然原料还原氮化合成Sialon的反应机理,指出天然原料合成Sialon的研究是未来几十年Sialon研究的一个重要方向。     

石墨烯——银纳米复合材料的制备与分散性研究

通过改进Hummers法制备氧化石墨,以无毒、绿色的葡萄糖为还原剂,在没有稳定剂、温和的液相反应条件下,原位制备石墨烯—银纳米粒子复合材料.采用X射线衍射、红外吸收光谱对所制备的石墨烯—银纳米复合材料进行了表征.结果表明:氧化石墨和银离子在反应过程中同时被葡萄糖还原.石墨烯—银纳米在DMF有机溶剂中的分散性优于氧化石墨烯.     

液相沉积法的应用及发展

介绍了一种新的湿化学成膜法—液相沉积法,对液相沉积法制备薄膜的原理、工艺流程及最新进展进行了详细阐述,并概述了其应用前景。     

青铜表面GPTS/MTMS复合防蚀涂层的成分分析

利用缓蚀剂BTA及NBS等助剂改性的GPTS/MTMS复合材料,在青铜表面制成透明防蚀涂层,用XPS分析了涂层组成。结果表明,涂层主要由C、Si、O、N以及Cu元素组成,改性前后C、Si、O、N元素的价态不变,Cu元素以Cu2 形式存在,其含量在改性后有明显增加。     

硼酸镁晶须多孔陶瓷的原位固相合成及其性能

采用热分析仪、X线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及力学实验方法,研究碱式碳酸镁和硼酸反应体系的相变过程,研究Mg与B摩尔比和烧成温度对原位固相合成硼酸镁(Mg2B2O5)多孔陶瓷的组织结构、形貌和性能的影响,并探讨Mg2B2O5晶须的生长机制。结果表明:采用碱式碳酸镁和硼酸为原料可以制备出Mg2B2O5晶须多孔陶瓷;在Mg与B摩尔比为1∶1.5和加热温度为900℃条件下,合成多孔陶瓷中Mg2B2O5晶须的直径和长度分别为0.2~0.3μm和4.0~8.0μm;多孔陶瓷的抗压强度可达4.72 MPa。Mg2B2O5晶须生长符合固-液-固生长机制。     

烧结助剂对硼酸镁晶须晶体结构与抗压强度的影响

本研究以硼酸和碱式碳酸镁为原料,采用原位合成法制备了硼酸镁晶须,通过热分析(TG)、X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对样品进行表征,考察不同烧结助剂对硼酸镁晶须晶体结构、表面形貌、孔隙率及抗压强度的影响.实验结果表明,当未添加烧结助剂时,孔隙率为62.57;,抗压强度为10.32 MPa,晶须直径为0.2～0.6 μm,长度为3～5 μm.添加烧结助剂会降低硼酸镁晶须的孔隙率并提高其抗压强度.当烧结助剂为MgF2时,孔隙率为51.77;,抗压强度为14.51 MPa;当烧结助剂为Na4P2O7时,孔隙率为43.79;,抗压强度为21.09 MPa.