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调制晶体光学均匀性的扫描测量法 总被引:3,自引:0,他引:3
调制晶体的性能好环,通常是由半波电压和消光比这二个量来表征的。而消光比往往与晶体的光学均匀性有关。本文介绍了一种可用于测量晶体的双折射率梯度、消光比、半波电压以及双折射率随温度变化的自动扫描装置及工作原理。该方法和其他方法相比具有测量速度快,重复性好,及误差小等优点,并可以从扫描曲线上直接定性地判别晶体的光学性能的好坏,文章最后还做了双折射率梯度及消光比的测量,并对实验结果进行了讨论。 相似文献
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