南川金佛山植被调查报告

一、金佛山自然概况 金佛山位于28°53′N,107°27′E,四川盆地南缘川黔交接地带,属于大娄山东段的一部分。行政上属南川县所辖,在南川县城以南30余华里。山体南北长约22公里,东西宽约12公里,面积约260平方公里。     

基于卓越工程计划的“液压与气压传动”实验教学改革

根据卓越工程师培养计划的要求,分析了液压与气压传动课程的实验教学存在的不足之处,进行了实验室硬件的改善、多层次的实验教学体系的建立,实验室管理系统的保障等几个方面的实验教学改革模式的探索,提高了实验教学效果和学生的工程素质。     

重庆石灰岩植被的初步研究

重庆市位于四川盆地东南部,总面积9696平方公里,现有森林复盖率10.4％。石灰岩面积约占总面积的10％,有145万亩左右,分布广阔,灰岩区除部分槽谷平地为农耕地外,多为荒山坡和裸岩,森林植被极少,或有郁闭度极小的柏木疏林,水土流失严重,生态系统平衡日趋恶化,因此,如何利用,改造灰岩山地的工作,成为重庆市自然资源利用的一个十分重要的问题。灰岩裸露,水土流失的程度,主要决定灰岩上的现有植被状况。所以,灰岩植被的研究,对于加大它的森林植被复盖,保持水土,改造利用,具有重要意义。     

西昌地区的草场情况

凉山州的西昌地区,位于四川西南部,川藏高原的东南沿。它的东南是小相岭、螺髻山、鲁南山,西北为大雪山之牦牛山,锦屏山,两大山系相对峙。雅砻江,安宁河则平行相间,从北向南纵贯全境,汇入金沙江,而金沙江则环绕本区西南流入滇境。全区地势从西北向东南倾斜,境内山多,地形复杂,大雪山系的牦牛山,太阳山和大凉山系的螺髻山,鲁南山,连绵起伏,分布其间。     

让科技之光照亮“第二经济”——南非科技计划支持弱势企业创新的启示

<正>南非是所谓的"展望五国"之一,经济发展潜力较大,发展速度较快,GDP连续8年持续增长,近三年增长率接近5%。这种良好的增长势头既是市场作用的结果,也是政府作用的结果。南非科技计划支持"第二经济"的做法就很有成效,也很有特色。政府重点资助"第二经济"     

YbF3沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷的影响

 在介绍了薄膜缺陷的特点及成因的基础上，分析了YbF₃沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷密度的影响，得出了镀制激光薄膜所需的合适速率。结果表明：薄膜表面缺陷主要以节瘤缺陷与陷穴缺陷为主，其缺陷密度随YbF₃沉积速率的减小基本表现为减小的趋势，当ZnS沉积速率约为0.2 nm/s，YbF₃沉积速率约为0.4 nm/s时，可得到比较满意的激光薄膜，薄膜表面缺陷密度仅为0.000 675。     

氧分压对HfO2薄膜残余应力的影响及有限元分析

 利用电子束蒸发法制备了单层HfO₂膜,控制氧气流量从0 mL/min以步长5 mL/min递增至25 mL/min(标况下)。利用ZYGO干涉仪测量基片镀膜前后的面形变化,代入Stoney公式计算出残余应力,分析了不同氧压下残余应力的变化情况。随着氧压的增大,残余应力由张应力逐渐过渡到压应力,当氧压过大时,压应力减小。因此可以通过改变氧压来控制应力。应力的变化与薄膜的微观结构密切相关,分析了所有样品的X射线衍射图（XRD）,发现均为非晶结构。利用Ansys建立基片-薄膜有限元模型,将应力作用下基片的形变与实验结果进行对比,验证所建立的模型,为分析HfO₂/SiO₂膜堆应力的匹配设计提供参考。     

光学薄膜残余应力分配预测模型计算方法研究

残余应力是光学薄膜研究的一个重要组成部分，它对光学元器件有很大的影响。根据弹性力学原理，基于应变不匹配，提出了一种可以预测薄膜残余应力分配的理论模型计算方法，并将计算结果与干涉仪测量值进行了对比。利用所建立的模型分析了薄膜参数变化时基底残余应力的变化情况。结果表明：所建模型合理；随着镀膜温度的增加，基底总残余应力随镀膜温度升高而呈增大的趋势;本征应力变化不太大；随着基底厚度的减小，基底上下表面应力呈增大的趋势，而薄膜应力则呈减小趋势，但变化趋势很小。基底的中心轴约位于基底上表面以下2／3处。     

Studies on properties of YbF3 thin film by different deposition parameters

YbF3 is proposed as a substitute for ThF4 in anti-reflection or reflection coatings in the infrared （IR） range. In this letter, we study on the properties of the YbF3 thin film deposited with different deposition parameters, and find the deposition rate of YbF3 has a large effect on the substrate particles deposition both on number and area. Moreover, we find the deposition temperature is a main factor of element content. In the end, we produce an anti-reflection coating on Ge substrate, and its average transmission reaches 99.5%, which can satisfy the practical requirement.     

YbF3沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷的影响

在介绍了薄膜缺陷的特点及成因的基础上,分析了YbF3沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷密度的影响,得出了镀制激光薄膜所需的合适速率。结果表明：薄膜表面缺陷主要以节瘤缺陷与陷穴缺陷为主,其缺陷密度随YbF3沉积速率的减小基本表现为减小的趋势,当ZnS沉积速率约为0.2 nm/s,YbF3沉积速率约为0.4 nm/s时,可得到比较满意的激光薄膜,薄膜表面缺陷密度仅为0.000 675。