Se掺杂WO3·0.5 H2O/g-C3N4光电催化剂的析氢反应性能

以二氰二胺、硒粉和钨酸钠为前驱体,采用一锅法成功制备出Se掺杂WO₃·0.5 H₂O/g-C₃N₄(Se/WCN)催化剂。并采用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和 X 射线光电子能谱(XPS)对样品的物相结构、形貌及化学组成进行表征。与原始的 WO₃和 g-C₃N₄相比,Se/WCN 催化剂的起始电位降到了-0.75 V(vs RHE),电流密度高达 70 mA·cm^-2,表现出更高的电催化活性。而光照后,Se/WCN 的催化性能进一步提升,起始电位从-0.75 V(vs RHE)降至-0.65 V(vs RHE),电荷转移电阻由371.4 Ω减小到310.0 Ω。     

用蒙特卡罗方法计算X射线在酞菁铜与重金属界面的剂量增强系数

用蒙特卡罗方法计算金-酞菁铜、 钨-酞菁铜和钽-酞菁铜界面的剂量增强系数. 结果表明, 当X射线能量为100~150 keV时, 界面附近酞菁铜一侧存在较大的剂量增强.      

用蒙特卡罗方法研究不同厚度的金对X射线在金 酞菁铜界面附近剂量分布的影响

用蒙特卡罗方法计算不同厚度的金在金 酞菁铜界面的剂量增强系数. 结果表明, 金的厚度影响界面附近的剂量增强效果. 当金的厚度为0~8 μm时, 剂量增强系数随金厚度的增加而增大.      

用蒙特卡罗方法研究双层重金属与有机半导体界面的X射线剂量增强

用蒙特卡罗方法计算不同几何结构的双层重金属对有机半导体界面产生的剂量增强系数, 结果表明, X射线在金-酞菁铜-金界面产生与金-酞菁铜界面相似但更大的剂量增强. 当半导体层-酞菁铜厚度相同（均为2 μm）时, 厚度为4 μm比厚度为2 μm的金产生更大的剂量增强; 当金的厚度相同（均为2 μm）时, 厚度为1 μm比厚度为2 μm的酞菁铜产生更大的剂量增强.      

Se掺杂WO3·0.5H2O/g-C3N4光电催化剂的析氢反应性能

以二氰二胺、硒粉和钨酸钠为前驱体,采用一锅法成功制备出Se掺杂WO₃·0.5H₂O/g-C₃N₄(Se/WCN)催化剂。并采用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和X射线光电子能谱(XPS)对样品的物相结构、形貌及化学组成进行表征。与原始的WO₃和g-C₃N₄相比,Se/WCN催化剂的起始电位降到了-0.75 V(vs RHE),电流密度高达70 mA·cm^-2,表现出更高的电催化活性。而光照后,Se/WCN的催化性能进一步提升,起始电位从-0.75 V(vs RHE)降至-0.65 V(vs RHE),电荷转移电阻由371.4Ω减小到310.0Ω。     

用蒙特卡罗方法研究不同厚度的金对X射线在金-酞菁铜界面附近剂量分布的影响

用蒙特卡罗方法计算不同厚度的金在金-酞菁铜界面的剂量增强系数.结果表明, 金的厚度影响界面附近的剂量增强效果.当金的厚度为0～8 μm时, 剂量增强系数随金厚度的增加而增大.     

碳布支撑Sn2+/Sn4+共掺杂的ZnIn2S4柔性光催化剂用于高效降解盐酸四环素

本文采用一步溶剂热法制备了Sn²⁺/Sn⁴⁺共掺杂的ZnIn₂S₄/碳布柔性光催化剂(CC/ZIS-Sn),二维片状ZIS-Sn均匀地排列在碳布表面。通过降解盐酸四环素(TCH)溶液来评价所制备样品的光催化活性。结果表明,CC/ZIS-Sn_0.09复合光催化剂具有高效的光催化活性,40 min对TCH溶液(50 mL,20 mg/L)的降解率高达93.3%。适量的Sn掺杂和碳布协同作用能够调整电子结构,缩小光捕获带隙,增强ZIS光生载流子的分离和转移效率。自由基捕获实验证明空穴是光催化降解过程中的主要活性物质。此外,CC/ZIS-Sn光催化剂还具有良好的可回收性和稳定性,循环测试4次后,对TCH溶液的去除率仍达83.1%。     

水利施工管理中存在的问题与相应改进

水利工程本身存在一定的特殊性,在施工管理中应该不断加强对安全意识与质量意识的培养,一旦在施工管理过程中遇到问题,应该及时采取相应的措施对其进行解决,只有这样才能使水利工程建设的整体质量得到提高,进而促进当地经济生产的提高,同时提高人民的生活质量。该研究结合自己的实际工作经验,对目前我国水利施工管理中存在的主要问题进行了分析,并相应的提出了一些解决措施,以期为相关研究提供一些借鉴。