Characterization of ZnO:AI films deposited by r.f.magnetron-sputtering at low temperature

Transparent conducting ZnO:AI thin films with good adhesion and Iow resistivity have been prepared on organic substrates and Coming 7059 glass substrates by r.f. magnetron-sputtering technique at Iow substrate temperature (25-210℃). Structural and photoelectric properties of the deposited films are investigated. The deposited films are polycrystalline with hexagonal structure and a preferred orientation with the c-axis perpendicular to the substrate. Only the (002) peak is observed.High quality films with resistivity as Iow as 1.0 x 10- 3Ω@ cm and 8.4 x 10- 4Ω@ cm, the average transmittance over 74% and 85% in the wavelength range of the visible spectrum have been obtained on different substrates.     

用脉冲宽度来研究电介质的介电常数εr^＊

给出一种用脉冲宽度来测量电介质的介电常数εｒ的新方法。     

Numerical solutions of Green''s integral equation for the diffraction of femtosecond laser pulses through a subwavelength aperture

In this letter,we propose a method for the numerical calculations of the femtosecond laser pulse passed through a subwavelength aperture.The time-dependent laser pulse is decomposed into a series of monochromatic simple harmoniv waves.For the light field of the harmonic wave with a single frequency,the numerical calculation is made based on the solution of the Green's integral equation set of the electro-magnetic waves.Such numerical solution is iterated for all the waves with different frequencies,and all thenumerical solutions are transformed into the light fields in the time domain by inverse Fourier transform.The light intensity distributions transmitted the subwavelength aperture are calculated and the resultsshow the propagation of the light field is along the direction of the medium interface.     

基于电磁场积分方程数值求解法的光学近场散斑及其一阶统计特性

从简谐光波满足的Helmholtz方程出发, 将由Green定理得到的介质分界面上光场的积分方程转化为以表面上的光场及其导数为未知量的线性方程组, 并对其进行数值求解, 实现了介质分界面上光场的严格数值计算. 对光波经随机自仿射分形表面散射后在近场光学区域内产生的光强进行计算, 研究了近场散斑的传播特性以及对比度和光强概率密度函数的演化特性. 近场区域内的散斑与传统衍射区和成像系统中散斑场的特性具有很大的不同: 散斑光强分布中具有局域起伏, 并且这种起伏在经过一个波长的起伏后消失；对于较小的横向相关长度的表面, 散斑对比度在近场区域附近达到饱和值, 而散斑场也接近Gauss散斑. 当表面的横向相关长度较大时这种转化则比较缓慢.     

激光溅射沉积制备的ZnO:Ga薄膜表面形貌分析

薄膜表面形貌定量研究有助于薄膜生长机理的认识.研究的薄膜是用激光脉冲沉积法(PLD)制备的ZnO:Ga(GZO)透明导电薄膜.由于GZO薄膜的生长是在远离平衡态情况下实现的,具备自仿射分形特征,可以用高度-高度相关函数进行描述.通过对用原子力显微镜(AFM)获得的表面高度数据进行相关运算,定量地分析了PLD制备的GZO...     

LiIO3晶体中和频产生连续355nm紫外光分析

在环形腔ＹＡＧ连续稳频激光器上，通过ＬｉＮｂＯ３晶体腔内倍频输出的１０６４ｎｍ和５３２ｎｍ的单频激光，在腔外聚焦到ＬｉＬＯ２晶体中和频产生了３５５ｎｍ的紫外光。     

各向异性随机表面光散射轮廓实验研究

用原子力显微镜对Si（100）晶片样品进行了表面形貌测量，发现了其高度分布的各向异性，通过推导和计算得出了一维正弦位相光栅散射各级极大的位置分布曲线，并将此曲线应用到样品表面光散射轮廓的测量中，对测量结果进行了定性分析，发现了散射轮廓主极大和次级大随入射角的变化关系，表面参量的提取有待于各向异性表面相关理论的进一步研究．     

光源编码的白光散斑剪切干涉计量术

本文提出了一种用非相干光源照明进行剪切干涉计量的方法—光源编码的白光散斑剪切干涉计量术.它采用光栅对光源进行编码以提高空间相干性,使物体的两个剪切像的波面部分相干叠加,以实现剪切干涉.     

部分相干像面散斑技术

本文以光的部分相干性理论为指导,讨论了部分相干像面散斑(通常称为白光散斑)技术的关键.其结果可与激光像面散斑媲美.     

大散射角散斑场中有关相位奇异新特性的研究

利用散斑场和参考光的干涉提取散斑场复振幅和相位, 研究了不同散射角下散斑场相位的分布规律以及相位奇异处光波复振幅实部零值线和虚部零值线夹角、光强等值线离心率的统计特性. 在大散射角散斑中发现了一种新的相位奇异现象, 即相位奇异线; 研究了相位在跨越奇异线时的突变规律及涡旋状相位的分布特征, 发现在相位奇异线处存在着呈双曲线或抛物线状的光强等值线.