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用射频磁控溅射法在80℃衬底温度下制备出MgxZn1-xO(x=0.16)薄膜,用X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)和透射谱研究了退火温度对MgxZn1-xO薄膜结构和光学性质的影响.测量结果显示,MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构,并且具有沿c轴的择优取向;随着退火温度的升高,(002)XRD峰强度、平均晶粒尺寸和紫外PL峰强度增大,(002)XRD峰半高宽(F
关键词:
xZn1-xO薄膜')" href="#">MgxZn1-xO薄膜
射频磁控溅射
退火 相似文献
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溅射法制备的ZnO薄膜的光发射 总被引:1,自引:0,他引:1
报道了用射频磁控溅射法在硅衬底上制备出具有好的(002)择优取向的多晶ZnO薄膜,在514nm处观察到显著的单色绿光发射峰;且随着氧分压的增加,绿光发射峰的强度减弱.经真空中退火该发射峰增强;而在氧气中退火该发射峰强度减弱.该发射峰强度依赖于氧分压的事实表明:514nm绿光发射峰与ZnO薄膜中的氧空位缺密切相关,认为它来自于氧空位缺陷深施主能级上的电子到价带顶上的跃迁. 相似文献
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MgxZn1-xO thin films have been prepared on silicon substrates by radio
frequency magnetron sputtering at 60℃. The thin films have hexagonal
wurtzite single-phase structure and a preferred orientation with the c-axis
perpendicular to the substrates. The refractive indices of MgxZn1-xO films
are studied at room temperature by spectroscopic ellipsometry over the wavelength
range of 400--760\,nm at the incident angle of 70℃. Both absorption
coefficients and optical band gaps of MgxZn1-xO films are determined by
the transmittance spectra. While Mg content is increasing, the absorption edges of
MgxZn1-xO films shift to higher energies and band gaps linearly increase
from 3.24.eV at x=0 to 3.90\,eV at x=0.30. These results provide important
information for the design and modelling of ZnO/ MgxZn1-xO heterostructure
optoelectronic devices. 相似文献
4.
由零场分裂随压力和温度变化的实验数据和晶体结构确定了状态方程 ,并采用完全对角化方法 ,研究了NiSiF6 ·6H2 O的零场分裂随压力和温度的变化行为 .理论结果与实验值符合得很好 . 相似文献
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在我校“双肩挑骨干人员出国访问政策”的指导下,在国际合作交流处的支持下,本人经学校批准于2006年3月17日-5月17日在曼彻斯特大学进行了为期2个月的研究与交流工作。 相似文献
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GaAs/AlGaAs多量子阱结构材料的光致发光特性 总被引:1,自引:0,他引:1
采用MOCVD技术制备了GaAs/AlGaAs多量子阱结构材料,对其进行了光致发光特性的测量,结果观察到5个发光峰,其波数分别为u=9600cm^-1,12020cm^-1,12240cm^-112550cm^-1和13070cm^-1,并对发光峰的位置进行了理论的说明。 相似文献
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MgZnO薄膜及其量子阱和超晶格的发光特性 总被引:11,自引:4,他引:7
MgO和ZnO形成合金MgxZn1-xO的带隙可以在3.3~7.9eV之间变化,在制备紫外波段光电器件方面有着广阔的应用前景.由ZnO和MgZnO交替沉积而成的ZnO/MgxZn1-xO量子阱和超晶格在激光器、光探测器和其他光电器件方面也有潜在的应用价值.回顾最近几年对MgZnO薄膜材料发光特性的研究进展,介绍在不同衬底上用不同方法制备MgZnO合金薄膜的制备技术、发光特性以及发光特性与薄膜中Mg含量的关系;综述近年来在ZnO/MgxZn1-xO超晶格、量子阱研究上的成果,特别介绍了ZnO/MgxZn1-xO对超晶格、量子阱的发光特性、发光机理以及发光特性与势垒层镁含量、器件温度的关系. 相似文献
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用射频磁控溅射法在80℃的衬底温度下制备出MgxZn1-xO(0≤x≤0.30)薄膜.x射线衍射(XRD)结果表明,MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构,没有形成任何显著的MgO分离相,MgxZn1-xO薄膜的择优取向平行于与衬底垂直的c轴;c轴晶格常数随着Mg含量的增加逐渐减小.在MgxZn1-xO薄膜的光透射谱中出现锐利的吸收边,由透射谱估算出MgxZn1-xO薄膜的带隙宽度由3.32eV(x=0)线性地增加到3.96eV(x=0.30). 相似文献
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用射频磁控溅射法在80℃衬底温度下制备出MgxZn1-xO(x=0.16)薄膜,用X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)和透射谱研究了退火温度对MgxZn1-xO薄膜结构和光学性质的影响.测量结果显示,MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构,并且具有沿c轴的择优取向;随着退火温度的升高,(002)XRD峰强度、平均晶粒尺寸和紫外PL峰强度增大,(002)XRD峰半高宽(FWHM)减小.结果证明,用射频磁控溅射法通过适当控制退火温度可得到高质量MgxZn1-xO薄膜. 相似文献