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采用电喷雾离子化沉积技术, 在氟掺杂锡氧化物(FTO)衬底上制备了均匀的无定形铁镍双金属氢氧化物薄膜. 与浸泡法制备的薄膜相比, 该薄膜具有更高的纯度、 更大的比表面积和较高的电催化水氧化性能, 在10 mA/cm 2时的过电位为290 mV, 并在催化反应中表现出良好的稳定性, 为可控合成高催化活性的过渡金属氢氧化物薄膜提供了一种新方法. 相似文献
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Zn O是具有纤锌矿晶体结构的多功能半导体材料 ,它具有 3 .3 7e V的禁带宽度和高达 60 me V的激子束缚能 ,是很有希望的紫外发光材料 .由于具有 c轴的择优取向性 ,因此目前人们的注意力主要集中在对 c轴取向 Zn O薄膜的特性研究上 [1~ 3] .但其它取向的 Zn O薄膜也可在某些衬底的特定面上 ,通过特定的条件进行生长 ,如〈1 1 0〉取向的 Zn O薄膜可在特定的条件下生长在蓝宝石 R面衬底上[4~ 7] .由于 (1 1 0 )面的 Zn O薄膜具有一些 c轴取向薄膜所不具备或无法比拟的特性 ,如 :机电耦合系数高达6% (C面薄膜的机电耦合系数却不足 1 % )… 相似文献
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借助于一种全新的表面活性剂N,N-dimethyloctadecylammonium bromide acetate sodium(OTAB-Na),成功实现了对小尺寸钯纳米粒子微结构的控制。通过对合成条件的微扰,高度均匀且分散性良好的枝化结构和凹面体结构的钯纳米粒子被成功地制备。催化测试(利用氨硼烷作为氢化试剂来还原4-硝基苯酚为4-胺基苯酚)发现,钯纳米粒子的催化活性与其微观纳米结构相关,其中枝化结构的钯纳米粒子表现出了更为突出的催化性能。 相似文献
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Electrically Pumped Ultraviolet Random Lasing from p-ZnO:As Based on p-ZnO/N-GaN Heterojunction
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p-ZnO:As is prepared by the GaAs interlayer doping method. The potential applications of p-ZnO:As are evaluated by applying it into the construction of a p-ZnO/n-GaN heterojunction, though its hall, electrochemical capacitance-voltage and photoluminescence results show a hole concentration at the level of -10^17 cm-3 and a good optical quality. Ultraviolet random lasing is detected from the studied device under forward bias. Specific lasing modes are confirmed to originate from p-ZnO:As by further introducing the p-ZnO/MgO/n-GaN het- erostructure. The resulting random lasing phenomena demonstrate the promising prospects in device application of p-ZnO:As fabricated by using our methods. 相似文献
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