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1.
Smooth, dense and uniform diamond-like carbon films (DLC films) for industrial applications have successfully been prepared by dual-target unbalanced magnetron sputtering and the DLC characteristics of the films are confirmed by Raman spectra. It is found that the sputtering current of target plays an important role in the DLC film deposition. Deposition rate of 3.5 μm/h is obtained by using the sputtering current of 30 A. The friction coefficient of the films is 0.2-0.225 measured by using a pin-on-disc microtribometer. The structure of the films tends to have a growth of sp^3 bonds content at high sputtering current. The compressive residual stress in the films increases with the increasing sputtering current of the target.  相似文献   
2.
3.
离子束溅射沉积Ti-Ni薄膜及其电化学性能的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用离子束溅射沉积的方法在不同基片温度条件下制备了不同成分的Ti-Ni贮氢薄膜,研究了其电化学贮氢性能。结果表明:用离子束溅射沉积制备的Ti-Ni薄膜的结构为非晶状,薄膜对基片的附着力较强,在冲放电循环50次后仍为非晶态;在基片温度为350℃时制备的薄膜的结构为晶态,在多次放电循环后呈现非晶化趋势;Ti-Ni薄膜具有较高的电化学活性,晶化薄膜比晶态薄膜的最大放电容量高,但晶化薄膜的循环稳定性差。  相似文献   
4.
采用N++Cr+多元离子束增强沉积合成(TiCr)N膜层,对膜层进行了AES、TEM和XRD分析.测试了膜基体系的力学性能和电化学性能.与普通物理气相沉积相比,多元离子束增强沉积显示了开发新型薄膜材料的较强潜力. Multicomponent ion beam enhanced deposition was used to synthesize (TiCr)N films. The films were characterized by AES,TEM and XRD methods. The electrochemical property and mechanics property of the films were measured. The experimental results show that the multicomponent ion beam enhanced deposition has stronger potential of new material development than physical vapour deposition.  相似文献   
5.
钼和硫2种离子同步注入9Cr18不锈钢样品.用针盘摩擦磨损实验机测定了注入样品的耐磨性能,用俄歇电子能谱仪(AES)测量注入样品成分深度分布,并检测了样品硬度.与钼或硫单独注入9Cr18样品相比,钼和硫的同步注入使样品的摩擦因数和磨损寿命显著改善,此改性效果与注入层中注入的元素分布的叠加有关.采用计算机模拟了注入过程,模拟的结果有助于揭示改性层的特点和注入增强效果的机制.  相似文献   
6.
在三束动态混合离子注入机中,研究了电子束对动态混合沉积TiN薄膜的硬度,结合力和膜层结构的影响。结果表明,电子束增强了离子束的反应活力,保持了混合过程中温度的均匀性,整个沉积膜层中形成了均匀分布的细纤维状TiN晶粒,显著提高了膜层的韧性和结合力。  相似文献   
7.
基于故障字典法的雷达故障诊断技术研究   总被引:2,自引:1,他引:1  
针对雷达故障诊断中被测电路单元的复杂性和多样性进行了分析研究,提出采用故障模式分类的方法。根据电路结构及特点建立故障字典,确定测前故障集,并采用基于故障事例推理的诊断方法,进行故障诊断,并给出了应用实例。该方法大大减少了测试时间和测后分析计算量,加快实时诊断能力。  相似文献   
8.
采用阴极电弧离子镀膜工艺制备 Ti-Ni合金薄膜贮氢材料 ,用电化学方法研究这种材料的电化学贮氢性能 ,采用 XRD方法研究贮氢薄膜在充放氢前后的结构变化 ,分析不同成分、基体对于薄膜试样贮氢性能的影响及其原因 .分析表明 ,贮氢薄膜为纳米晶结构 ,Ti6 1 Ni39晶粒线性尺寸小于 5 nm,电化学容量可达 2 0 0 m A .h/g以上 ,试样在电化学循环后发现贮氢过程形成了稳定的氢化物  相似文献   
9.
基于中频溅射的掺铒Al2O3薄膜的光致发光特性   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用中频磁控溅射方法沉积制备了掺铒Al2O3薄膜,室温下测量了薄膜在1535nm波长处的光致发光光谱和抽运功率、掺铒浓度、退火温度对光致发光光谱强度的影响。结果表明,在真空气压为2×10-1Pa,氩气流量为70cm3/s,氧气流量为25~45cm3/s的条件下,最佳掺铒浓度为1.0at%,最佳退火温度为850℃。  相似文献   
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