美国第16届晶体生长及外延会议

美国第16届晶体生长及外延会议于2005年7月10-15日在蒙托纳州Big Sky召开。该会议由美国晶体生长学会主持召开。公司和大学给予资助。该会议是几年来规模最大的一次，有来自美、英、法、德、俄、加、日、中国等十几个国家400余名科技工作者参加。会议报告共282篇，其中邀请报告占到三分之一，会议大字报96篇，这些会议报告反映了近年来国际上在晶体材料及相关功能材料领域最新研究成果和发展动态。     

退火温度对KDP晶体光学均匀性的影响研究

 研究了磷酸二氢钾（KDP）晶体热退火前后光学均匀性的变化，发现适当温度下退火可以降低KDP晶体的内应力，提高晶体的消光比，从而提高晶体的光学均匀性。实验证明，50℃下退火即可消除部分内应力，110℃下退火可以消除生长鬼影和鬼线。但是,退火温度太高（如170℃）,也可能使晶体的均匀性降低。     

0.87Na0.5Bi0.5TiO3-0.13PbTiO3薄膜的MOSD+Dipping制备

采用MOSD+Dipping方法在P型Si(111)衬底上制备了0.87Na0.5Bi0.5TiO3-0.13PbTiO3薄膜.用X射线衍射技术研究了薄膜的结构和结晶性.用原子力显微镜分析了薄膜的表面形貌.同时还研究了薄膜的存储性能.     

新电光晶体DCNP的生长

本文报道了不同溶剂对ＤＣＮＰ晶体生长的影响，发现二甲基甲酰胺是一种好溶剂。利用降温法已生长出ＤＣＮＰ透明单晶。     

《DKDP晶体的亚稳四方相生长》

在这篇论文中,作者测量了DKDP晶体的过饱和溶液的亚稳区和亚稳四方相生长区域,这些结果表明,在单斜相稳定区域中,存在着相当宽的亚稳四方相生长区,(20～30℃),因此可以用降温法在该区域中生长出光学质量好的四方DKDP大晶体。     

MODELING AND SCALING OF CHIELECTRIC RELAXATION OF NONLINEAR OPTICAL POLYMERS IN FREQUENCY DOMAIN

chielectric relaxation theory was demonstrated, chielectric relaxation that selectively probes chromophore reorientation in the frequency domain was described by the Havriliak Negami(HN) function, chielectric spectra of several nonlinear optical (NLO) polymers were fitted well by the HN function. To describe the scaling of chromophore reorientation relaxation in frequency domain, two-shape parameters m and n describing the low- and high- frequency wings of the chielectric spectra need to be specified, besides the chielectric characteristic relaxation time τ and the chielectric strength Δχ⁽²⁾. From the temperature dependences of m and n of NLO polymers, the relations between the chromophore relaxation and the a relaxation of the polymer host have been revealed.     

Fe3+对KDP晶体生长影响的研究

金属离子对KDP晶体的影响是多方面的.本文采用不同的过饱和度,在不同的Fe3+掺杂浓度的生长溶液中生长KDP晶体,定量地研究了Fe3+对KDP晶体生长的影响.实验发现,无论是在高过饱和度还是在低过饱和度下生长KDP晶体,在一定的浓度范围内,Fe3+的掺入既可以增加生长溶液的稳定性,又可以有效抑制晶体柱面的扩展,而且晶体基本不楔化,同时,对晶体光学性能的影响也不大.     

吡啶盐二维电荷转移分子的设计、合成和超级化氯的测定

设计、合成了以吡啶阳离子为吸电子基团的二维电荷转移非线性光学生色团分子－双四苯鹏(反式)-4,4'-二{p-[(N-乙基-N-羟乙基)氨基]苯亚乙烯基}-N,N'-(1,2-乙基)-2,2'-联吡啶盐和双四苯硼(反式)-N-己基-咔唑-3,6-二(p-亚乙烯基-N-羟乙基-吡啶盐),利用超瑞利散射技术(HRS)测定了这两种分子的第一超级化率β,在1064nm分别为786x10^-^3^0esu和1770x10^-^3^0esu。双能级模型计算得到的β0的值分别为215x10^-^3^0esu和119x10^-^3^0esu。从分子结构的角度定性地分析了该类分子具有大β值的原因。     

KDP晶体生长过程中溶液稳定性的研究

在KDP晶体生长过程中,溶液的稳定性对KDP晶体的光学质量影响较大.溶液的稳定性是多种因素共同作用的结果.本文主要研究了过饱和KDP溶液中晶胚的分布情况、降温过程中晶体生长驱动力与降温速度之间的关系,并分析了KDP晶体实际生长过程中影响溶液稳定性的主要因素.我们认为,通过改善KDP晶体生长过程中溶液的稳定性,并与其它措施和技术相结合,是提高KDP晶体光学质量的有效途径.     

快速生长KDP晶体的光学性质研究

本文研究了快速生长的KDP晶体光学性质,结果表明快速生长的KDP晶体的光学性质低于传统降温法生长的晶体,原料中阴离子杂质的存在是造成这一结果的主要原因,确保快速生长晶体质量的首要条件是提高原料的纯度.