多层光盘调制码的优化

为达到光盘容量的最大化,基于多层光盘,对现有的调制码进行了优化,并对优化后可能出现的超出jitter允差问题和锁相环(PLL)时钟同步问题进行了分析并给予解决。提出了一种有别于传统的多层混合时钟同步信号获取方法,用以满足PLL稳定工作的要求,并用数理方法验证了这种方法的有效性。最后选用d=4和k=10～15作为多层并行读写光盘调制码的参数,最大码率时可提高光盘的线密度15%～23%。     

可记录光盘染料旋涂工艺的流动机制研究

染料旋涂是可记录光盘复制中的核心工艺，依据实验给出旋涂工艺的简化模型，并运用旋转圆盘理论分析流体流动，考虑基片上的预刻槽对流动的影响，考虑基片表面和流体间的滑移效应，导出运动方程、边界方程和连续方程，最终导出染料旋涂的控制方程。     

染料旋涂工艺中的挥发和流动

染料旋涂是高密度可录光盘复制工艺中的核心部分,其流体流动的力学机制分析属于旋转圆盘系统理论的最新进展,文中分析了染料旋涂中复合溶剂的挥发对流体流动的影响.利用牛顿流体旋涂模型和旋涂溶剂挥发模型进行仿真实验,并对过渡点位置进行修正.依托实际光盘复制生产线进行离线旋涂实验.根据仿真实验和生产线旋涂实验提出染料旋涂的工艺模型 无溶剂挥发、无流体流动的下料阶段; 无溶剂挥发、有流体流动的扩散阶段; 有溶剂挥发、无流体流动的甩干阶段.利用工艺模型优化染料旋涂工艺,实现生产线的闭环控制.     

可写光盘光密度曲线模型的研究及应用

利用光密度曲线模型优化可写光盘的染料旋涂工艺。模型具有4个特征点和3个特征线段。特征点的位置反映了平移效应和填充效应的综合效果。特征线段的斜率反映了薄膜表面的平面度。借助模型分析旋涂工艺中的许多重要参数,从而控制盘片质量,并最终实现闭环生产控制。