排序方式: 共有12条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
用沟道—卢瑟福背散射技术(RBS)研宄了能量为50 KeV,剂量为3.8×10~(16)/cm~2和1.9×10~(16)/cm~2的~(40)Ar~+离子注入(111)硅衬底中的恒温等时热退火行为。结果表明,离子注入层中Ar 原子的扩散和释放以及非晶硅层的再结晶行为明显地依赖于~(40)Ar~+离子的注入剂量和退火温度。注入剂量为3.8×10~(16)/cm~2的样品,当退火温度为700℃时,表面层硅的密度明显减小,退火温度为750℃时,注入层中的大部分Ar 发生外扩散并从样品表面释放。注入剂量为1.9×10~(16)/cm~2的样品,退火过程中没有发现衬底硅表面密度的变化,而且当退火温度为900℃时,残留在注入层中的Ar 仍旧比较多。最后对这些现象进行了讨论和解释。 相似文献
2.
本文介绍了低速离子在固体材料中电子阻止本领的理论发展情况。着重介绍了有效电荷理论和根据有效电荷理论,由氢离子在材料中的电子阻止截面标度各种重离子在同种材料中电子阻止截面的方法。 用电导理论导出了低速离子贯穿价电子气的阻止截面公式,并给出了一套有效电荷比的经验公式。利用这套公式求得的电子阻止截面Se的值,既符合实验上发现的Se随z_1或z_2振荡的规律,又符合Se随入射离子能量的变化关系。 相似文献
3.
本文提出了一个杂质沉淀引起位错生成、位错-杂质相互作用、杂质原子沿晶粒间界快速扩散的模型,用以解释高剂量离子注入形成的非晶层在重新结晶的退火过程中杂质外扩散和缺陷运动现象。给出了在位错的合应力场的影响下杂质的扩散方程。以能量为80keV,剂量为1016cm-2的Pb+注入Si(111)面为例,对扩散方程进行了数学物理处理,从而给出了根据实验测量推演表观扩散系数随时间变化及位错的合应力场对杂质的作用力的纵向分布的方法。实验测得的位错合应力场对杂质的作用系数α≈8.4×10-28dyn·cm3,退火时间在5×103sec至8.25×103sec内,表观扩散系数D随时间的变化为一指数关系。
关键词: 相似文献
4.
5.
本文根据离子在固体材料中电子阻止截面的实验资料,给出了低能Li~+,Be~+,B~+,C~+,N~+,O~+,F~+,Ne~+等离子在固体中电子阻止截面S_e的经验公式。这些经验公式既能够很好地反映电子阻止本领的Z_1和Z_2振荡、又能正确地给出S_e随离子能量E的变化关系。用这种以实验为基础的S_e经验公式和符合于WHB势的核散射函数,计数了从H~+到Ne~+十种轻离子在非晶Al_2O_3,SiO_2,20/25/Nb不锈钢,LiNbO_3和UO_2等材料中的投影射程分布的一次至三次矩。将计算值与近几年的实验测量及其他人的计算结果进行了比较,在低能端,我们计算的平均投影射程R_p与实验符合得更好。 相似文献
6.
本文根据离子在固体材料中电子阻止截面的实验资料,给出了低能Li+,Be+,B+,C+,N+,O+,F+,Ne+等离子在固体中电子阻止截面Se的经验公式。这些经验公式既能够很好地反映电子阻止本领的Z1和Z2振荡、又能正确地给出Se随离子能量E的变化关系。用这种以实验为基础的Se经验公式和符合于WHB势的核散射函数,计数了从H+到Ne+十种轻离子在非晶Al2O3,SiO2,20/25/Nb不锈钢,LiNbO3和UO2等材料中的投影射程分布的一次至三次矩。将计算值与近几年的实验测量及其他人的计算结果进行了比较,在低能端,我们计算的平均投影射程Rp与实验符合得更好。
关键词: 相似文献
7.
8.
在均匀电子气模型和微扰极限成立的条件下,给出了低迷离子在固体中的电子阻止截面公式。结果表明,低迷离子的电子阻止本领可以表示成只与入射离子性质有关的因子和只与材料性质有关的因子的乘积。这种简化阻止函数的形式被推广到一般的固体材料,从而得出相同速度的离子之间的有效电荷比基本与靶材料无关的结论。给出了一套计算重离子与氢离子有效电荷比的经验公式,由实验资料确定了公式中的参数。采用此有效电荷比公式以及低速氢离子的电子阻止截面数据,很容易计算出低速重离子的电子阻止截面。与实验比较表明,我们给出的公式能很好地描写实验上发现的Z_1和Z_2振荡,而且在实验误差范围内,能很好地描写电子阻止截面S_e随离子能量的变化关系。 相似文献
9.
10.