铁电多层膜与铁电超晶格

铁电多层膜和铁电超晶格是改善铁电薄膜性能并探索新的物理现象的有效途经.作者结合自己的研究工作,介绍了铁电多层膜和铁电超晶格的研究现状和进展.     

磁镜中的可见光辐射研究

使用高分辨率的多道可见光探测系统测量了HER磁镜在晃荡电子位形形成时的等离子体可见光辐射(主要是H_α线),并对磁镜等离子体的有关特性及其涨落行为进行了研究。     

集成铁电器件用LaNiO3薄膜电极的结构与电学性能

采用化学溶液沉积法在(100)Si,SiO2/Si,(100)Al2O3,(100)MgO,(100)SrTiO3(STO),(100)ZrO2等衬底上制备了LaNiO3(LNO)薄膜,研究了热处理温度对薄膜结构和电性能的影响.结果显示,衬底种类影响LNO薄膜的结晶,其中STO衬底上的LNO薄膜呈高a轴择优取向成长,且其电阻率最低,为0.87 mΩ.cm.而对于Si衬底上的LNO薄膜,随着热处理温度升高,晶粒尺寸增大,电阻率降低,在750℃时电阻率达到最低值(1.52 mΩ.cm),其后热处理温度的升高导致杂相的形成,电阻率反而上升.扫描电镜观察证实这些LNO薄膜光滑、致密、均匀且无裂纹.结果表明,制得的LNO薄膜可用作集成铁电薄膜器件的底电极.     

pH值对Bi_4Ti_3O_（12）溶胶水解特性的影响

报导了前驱体溶液的ｐＨ值对Ｂｉ－Ｔｉ溶液的水解特性的影响，并探讨了乙醇胺的催化作用机理。研究表明，乙醇胺可调节溶液的ｐＨ值，其机理是与ＨＡｃ反应，并与Ｂｉ＋离子生成稳定的络合物．前驱体溶液的ｐＨ值是决定溶胶、凝胶质量的主要因素．ｐＨ值较小时，溶液容易产生沉淀；ｐＨ值较大时，溶液中有大量的浑浊物；只有ｐＨ值在２．５～４之间的溶液才能形成均匀稳定的溶胶和凝胶     

溶胶-凝胶法制备MgxZn1-xO薄膜的结构及光学特性

用溶胶-凝胶法制备了一系列的Mg_xZn_1-xO(0≤x≤0.3)薄膜,并用X射线衍射(XRD)和光致发光(PL)研究了不同的退火温度和Mg的掺杂含量对Mg_xZn_1-xO薄膜的结构和光学性质的影响.研究表明:Mg_xZn_1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构,并且具有沿c轴的择优取向;发现了中间热处理温度为350℃的Mg_xZn_1-xO薄膜退火温度的转折点为700℃,低于这个温度时随退火温度的升高,(002)衍射峰强度增强且掺Mg的薄膜既有紫外光又有绿光发射;800℃退火时,薄膜的(002)衍射峰强度减小,出现了(100)和(101)衍射峰,且掺Mg的薄膜只有紫外发光峰.不同的掺杂浓度对于发光也有影响,低于700℃退火时,ZnO薄膜只出现紫外发光峰,掺Mg的薄膜却出现了紫外和绿光两个发光峰.     

溶胶-凝胶法制备高取向K(Ta,Nb)O3薄膜

K(Ta,Nb)O_3具有良好的电光特性、非线性光学特性和热释电特性.K(Ta,Nb)O_3薄膜在光电子集成电路中有着良好的应用前景.国外主要是进行K(Ta,Nb)O_3单晶和陶瓷的研究工作,近年来也有制备K(Ta,Nb)O_3薄膜的报导.我们采用溶胶-凝胶法制备KTa_(0.65)Nb_(0.35)O_3薄膜.制备过程如下:把Ta(OC_2H_5)_5,Nb(OC_2H_5)_5和K(OC_2H_5)溶于无水C_2H_5OH 中配成0.2     

Sol—Gel法合成TiO_2超细粉末

用Ｓｏｌ—Ｇｅｌ法成功地合成了ＴｉＯ２超细粉末。研究表明，这样制备的超细粉末在室温至７５０℃之间经历无定形态→锐钛矿→锐钛矿与金红石共存→金红石的相变，其比表面积为１７～２５１ｍ２／ｇ，平均晶粒尺寸为３～１００ｎｍ，杂质含量少，纯度高。