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本文基于新的Kronecker型替换,给出两个由黑盒表示的稀疏多项式的新确定性插值算法.令f∈R[x1,……,xn]是一个稀疏黑盒多项式,其次数上界为D.当R是C或者是有限域时,相对于已有算法,新算法具有更好的计算复杂度或者关于D的复杂度更低.特别地,对于一般黑盒模型,D是复杂度中的主要因素,而在所有的确定性算法中,本文的第二个算法的复杂度关于D是最低的. 相似文献
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DSP目前被广泛应用于许多领域,例如数字通信,图像处理,电机控制等方向。本文以TI公司的TMS520LF2407A芯片为例、介绍了DSP在电机测速中的应用,由于TI的2000系列芯片内含捕获单元和正交编码脉冲(QEP)电路,所以可以很方便地用于电机测速和控制。 相似文献
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CDMA系统中的功率控制技术 总被引:2,自引:0,他引:2
在CDMA系统中,功率控制是无线资源管理的核心技术之一,它对于克服“远近效应”、减小小区间干扰、增加系统容量和提高系统性能具有重要作用。文章简述功率控制技术各种方法的性能特点及其实现方法,并介绍TDD系统和FDD系统中的功率控制技术及其效能差异。 相似文献
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FM31XX是Ramtron公司最有竞争力的产品系列,包含4K-256K的铁电存储器,精度为+2.17PPM的RTC,低电压复位,看门狗复位和低电压检测,8个可以锁定的特殊存储和2个16位的频率高达10M的计数器。 相似文献
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针对VO2薄膜在微测辐射热计上的应用,采用射频反应溅射法,在室温下制备氧化钒薄膜;研究了氧分压对薄膜沉积速率、电学性质及成分的影响.通过调节氧分压,先获得成分接近VO2的非晶化薄膜,再在400℃空气中氧化退火,便可制得高电阻温度系数,低电阻率的VO2薄膜,电阻温度系数约为-4%/℃,薄膜方块电阻为R□为100—300kΩ;薄膜在室温下沉积,400℃下退火的制备方法与微机电加工(micro electromechanic
关键词:
二氧化钒
电阻温度系数
氧分压
射频反应溅射法 相似文献