Highly transparent ceramics for the spectral range from 1.0 to 60.0μm based on solid solutions of the system AgBr-AgI-TlI-TlBr

The article is devoted to the technology for obtaining optical ceramics of Ag Br-Tl I and Ag Br-Tl Br_0.46I_0.54 systems and manufacturing samples with different compositions.The new heterophase crystal ceramics are transparent without absorption windows in the spectral range from 1.0 to 60.0μm.In the ceramics’transparency spectra based on the Ag Br-Tl I and Ag Br-Tl Br_0.46I_0.54 systems fusibility diagrams,with an increase in the thallium halides mass fraction,as well as the replacement of the bromine ion with iodine,the maximum transparency shifts to a long infrared region.     

摩托罗拉8位HC08微控制器系列

摩托罗拉微控制器(MCU)具有编程语言简单、外围设备齐全、存储器模型用户友好、选择广及供应多、性能价格比高等优点,被设计者评为最容易使用的产品之一。在全球顶级的原始设备制造厂商(OEM)的无数嵌入式系统和用户最终产品中都可找到摩托罗拉的MCU,包括键盘、传呼机、电子游戏机、洗衣机、安全系统及汽车等。     

填充式方钴矿化合物CeOs4Sb12近藤相互作用的非弹性中子散射研究

CeOs4Sb12晶体中由于导电电子与Ce3+ 4f1电子之间存在c-f杂化作用导致费米面附近存在能量间隙.这种c-f近藤相互作用和能量间隙是理解CeOs4Sb12物理性质,如近藤绝缘体行为、Ce3+磁矩在低温下猝灭以及重费米性等电、磁性质的关键.当用LAM-D中子谱仪对粉末CeOs4Sb12进行测量时,可以得到不同温度下CeOs4Sb12的非弹性中子散射谱.结果表明CeOs4Sb12中存在近藤相互作用,其作用强度为3.1 meV,证实了CeOs4Sb12为近藤绝缘体.中子测量得出CeOs4Sb12德拜温度为317 K.     

填充式方钴矿化合物CeOs4Sb12近藤相互作用的非弹性中子散射研究

CeOs₄Sb₁₂晶体中由于导电电子与Ce³⁺ 4f¹电子之间存在c-f杂化作用导致费米面附近存在能量间隙.这种c-f近藤相互作用和能量间隙是理解CeOs₄Sb₁₂物理性质，如近藤绝缘体行为、Ce³⁺磁矩在低温下猝灭以及重费米性等电、磁性质的关键.当用LAM-D中子谱仪对粉末CeOs₄Sb₁₂进行测量时，可以得到不同温度下CeOs₄Sb₁₂的非弹性中子散射谱.结果表明CeOs₄Sb₁₂中存在近藤相互作用，其作用强度为3.1 meV，证实了CeOs₄Sb₁₂为近藤绝缘体.中子测量得出CeOs₄Sb₁₂德拜温度为317 K. 关键词： 非弹性中子散射 填充式方钴矿 近藤绝缘体     

A Convenient and Efficient Procedure fox Oxime Ethers

Acetophenone oxime and benzaldehyde oxime were converted to oxime ethers in the presence of alkyl halide or methyl sulfate and KOH in aqueous DMSO in 5 to 70 min. The yields of oxime ethers were 70-96%.     

THE -PROBLEM FOR HOLOMORPHIC (0,2)-FORMS ON PSEUDOCONVEX DOMAINS IN SEPARABLE HILBERT SPACES AND D.F.N. SPACES

51. IntroductionL. H5.m.nd..l3] solved the 0problem by using the L2-estimates for partial differentialoperators in C'.. J. Kajiwara[4] studied infinite dimensional generalizations of the poten-tial kernel. Concerning the 0-problem in infinite dimensional spaces, P. ffeb.i.lll] investi-gated the a-equation for coc (o, 1)-forms in arbitrary pseudoconvex open subsets of separableHilbert spaces without growth condition. J. F. Colombeau and B. Perr.t[l1 showed that aCoc solution u of 0u = w ca…     

具有锥瓣形光波导的2-甲基4-硝基苯胺对Nd:YAG激光产生二次谐波

在最近几年,合成了具有极大的光学非线性的有机化合物。它们的非线性至少能与一般的非线性材料如磷酸二氢钾(KDP)或LiNbO_3相比或更大。本文研究中,采用2-甲基4-硝基苯胺(MNA)的薄晶片进行二次谐波产生的实验,MNA是用汽相生长法制备,它的非线性很大,SHG张量的最大分量d_(11)=2.5×10~(-10)m/V,品质因数比LiNbO_3大2000倍,在控温油槽(温度精度±0.1℃)内进行汽相生长。在密封玻璃管中,温度达到120℃,十天内生长出晶体。制出的MNA晶体是类似薄片的透射     

赝能隙导致的YBa2(Cu1-xMx)3O7-δ(M=Co,Zn)薄膜的输运性质异常

报道了两类典型元素替代的超导Y123相体系-YBa2(Cu1-xCox)3O7-δ(x=0.01,0.02)和YBa2(Cu1-yZny)3O7-δ(y=0.005,0.010)薄膜的电阻率-温度特性(ρ(T))和Hall效应(RH (T)).研究表明,Co掺杂的Y123相体系十分类似于氧欠掺杂的情况,对Co掺杂的薄膜样品,由电阻率-温度特性定义的赝能隙打开的温度T*分别为193和225K.而Zn掺杂的样品没有观察到赝能隙打开对电阻率-温度特性的影响.由Hall效应的测量和Hall角(cotθH)定义了另一个特征温度T 0,介于Tc与T*之间,这一特征温度与核磁共振(NMR)给出的赝能隙打开温度相近,说明可能源于电子自旋自由度上的能隙打开.在室温到Tc范围内,电阻率-温度特性和Hall效应分别定义了两类不同的转变温度(T*和T 0),可能分别源于电子电荷和自旋通道上的赝能隙的打开,预示着电荷和自旋自由度分别进入某种基态.     

超大规模集成电路中任意形状掩模边缘附近的离子分布

离子注入过程中,注入离子在掩模边缘附近的分布决定MOS晶体管漏极区域处的电场强度,计算了70keV硼离子注入硅样品中不同掩模边缘离子密度等线,考虑了四阶矩下的杂质深度分布(无掩模情况)。合理选择掩模蚀刻工艺,可获得均匀性,高抗噪声度的器件中。同时也指出了太薄掩模材料对注入离子分布的影响。     

InP/InGaAs隐埋结构雪崩光电二极管

设计并制作出一种有新型保护结构的平面InP/InGaAs雪崩光电二极管。该器件在P-n结下面有一被隐埋的n-InP层和n~--InP倍增区,这样便获得了良好的保护作用。器件的整个有源区均呈现均匀倍增,最大倍增因子为30,在击穿电压的90%处获得了大约20nA的低暗电流,平坦的频率响应高达1GHz。在倍增因子达到17时测试了倍增噪声。