193nm光刻技术进展和问题

光刻是制造大规模集成电路的主要方法。由于快速计算机和多功能处理器不断发展,并提出很多新的要求,促使半导体集成线路制造商力求增加单片上的元件密度。元件密度受最小光刻尺寸限制。虽然光刻工艺水平已能刻出准波长特征尺寸的集成线路的线宽,但是,连续发展几代的单片集成线路要求光源波长从436nm到365nm。用248nm波长光源(KrF准分子激光器).光刻的特征尺寸为0.25μm。期望能生产0.18μm特征尺寸的集成线路。为了生     

光学信号处理器

本专利阐述一种结构新颖的CCD信号处理器。采用CCD处理器,元件内的偏压可以直接抑制。CCD间以及读出放大器间的散射也可减少。(美国专利号:5170048)     

先进的微型器件和空间科学传感器

国际光学工程学会于1994年7月28—29日在美国圣迭戈召开了“先进微器件和空间科学传感器”学术交流会，会议共交流15篇论文。第一部分论文阐述了关于行星表面，大气和行星际间探测所用的器件和系统以及今后三年对火星表面和大气探测可能用的微型器件和小型系统。第二部分论文重点论述了新的传感器技术在现场探测和遥测领域的潜在应用。第三部分论文阐述了行星探测和地球遥感仪器整体小型化问题。     

引人注目的新的显示技术

信息显示学会1996年学术交流年会在美国加利福尼亚州圣地戈举行(5月14—16日).会上发表了有关液晶显示技术、主动式液晶显示器、发射式显示器、大型和小型显示器以及最传统的显示器—阴极射线管.会议还举办了成果展览和展示了有关技术论文,反映了显示器研究和应用方面的世界水平.     

Weighted least-squares criteria for electrical impedance tomography

Methods are developed for the design of electrical impedance tomographic reconstruction algorithms with specified properties. Assuming a starting model with constant conductivity or some other specified background distribution, an algorithm with the following properties is found. (1) The optimum constant for the starting model is determined automatically. (2) The weighted least-squares error between the predicted and measured power dissipation data is as small as possible. (3) The variance of the reconstructed conductivity from the starting model is minimized. (4) Potential distributions with the largest volume integral of gradient squared have the least influence on the reconstructed conductivity, and therefore distributions most likely to be corrupted by contact impedance effects are deemphasized. (5) Cells that dissipate the most power during the current injection tests tend to deviate least from the background value. For a starting model with nonconstant conductivity, the reconstruction algorithm has analogous properties.