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1.
本文基于新的Kronecker型替换,给出两个由黑盒表示的稀疏多项式的新确定性插值算法.令f∈R[x1,……,xn]是一个稀疏黑盒多项式,其次数上界为D.当R是C或者是有限域时,相对于已有算法,新算法具有更好的计算复杂度或者关于D的复杂度更低.特别地,对于一般黑盒模型,D是复杂度中的主要因素,而在所有的确定性算法中,本文的第二个算法的复杂度关于D是最低的. 相似文献
2.
3.
4.
形状记忆合金由于其优良的超弹性和形状记忆效应而在医学上有着广泛的应用,其中由于NiTi形状记忆合金相较其它形状记忆合金具有更好的超弹性和生物相容性而得到了广泛的应用。但由于镍元素的毒性,使得开发一种生物相容性更好、无镍且具有良好力学性能的形状记忆合金成为必需。Ti-Mo-V-Nb-Al五元合金就是为此而开发的一种新型形状记忆合金。本研究用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和高分辨电子显微镜(HREM)研究了不同热处理条件对Ti-Mo-V-Nb-Al形状记忆合金微观结构的影响。 相似文献
5.
DSP目前被广泛应用于许多领域,例如数字通信,图像处理,电机控制等方向。本文以TI公司的TMS520LF2407A芯片为例、介绍了DSP在电机测速中的应用,由于TI的2000系列芯片内含捕获单元和正交编码脉冲(QEP)电路,所以可以很方便地用于电机测速和控制。 相似文献
6.
针对VO2薄膜在微测辐射热计上的应用,采用射频反应溅射法,在室温下制备氧化钒薄膜;研究了氧分压对薄膜沉积速率、电学性质及成分的影响.通过调节氧分压,先获得成分接近VO2的非晶化薄膜,再在400℃空气中氧化退火,便可制得高电阻温度系数,低电阻率的VO2薄膜,电阻温度系数约为-4%/℃,薄膜方块电阻为R□为100—300kΩ;薄膜在室温下沉积,400℃下退火的制备方法与微机电加工(micro electromechanic
关键词:
二氧化钒
电阻温度系数
氧分压
射频反应溅射法 相似文献
8.
9.
H. Mazaheri 《分析论及其应用》2006,22(2):141-145
The concepts of quasi-Chebyshev and weakly-Chebyshev and σ-Chebyshev were defined [3 - 7], andas a counterpart to best approximation in normed linear spaces, best coapprozimation was introduced by Franchetti and Furi^[1]. In this research, we shall define τ-Chebyshev subspaces and τ-cochebyshev subspaces of a Banach space, in which the property τ is compact or weakly-compact, respectively. A set of necessary and sufficient theorems under which a subspace is τ-Chebyshev is defined. 相似文献
10.
传声器(又称话筒或麦克风)是演播室进行播音和录音的基本器材,其性能优劣会直接影响播音和录音的效果,因而备受演播室工程师们关注,纷纷不惜花重金为各自的演播室配置高品质的传声器。随着技术进步和市场竞争,近几年来传声器的性能和制造质量比过去有明显改进,价格则呈下降趋势。过去售价数千元的演播室用电容传声器现在最便宜的只需花一两千元即可买到。下面介绍几款今年上市的演播室用的新型电容传声器。 相似文献