2001年及以后国际及双边会议计划

2001年 1.第二届海峡两岸分析化学交流研讨会 2001年10月在北京举行。人数：80人,其中台方20～25人。由中国化学会分析化学委员会主办。 2.海峡两岸高分子学术研讨会 2001年11月4～10日在福建省武夷山举行。人数：40人,其中台方15人。由中国化学会高分子委员会主办。 3.第七届中日双边有机固体学术讨论会 2001年11月19～22日在珠海举行。人数：120～140人,其中日方40～50人。由中国化学会有机固体委员会主办。 4.第八届国际电分析化学研讨会 Eighth International Seminar on Electroanalytical Chemistry(8th ISEC) 2001年10月13～16日在长春举行。人数：140人,其中境外40人。中国化学会分析化学委员会主办。 5.2001北京国际粘接剂技术研讨会 China Swiss Bonding 2001 (CSB′01) 2001年10月10～12日在北京举行。人数300人,其中外方200人。中国化学会应用化学委员会主办。 2002年 1.第二届国际逆流色谱技术学术会议 The 2nd International Conference on Countercurrent Chromatography (CCC2002) 2002年4月16～20日在北京举行,人数：200人,其中外方100人。中国化学会秘书处、北京市新技术研究所承办。 2.IUPAC 2002年世界高分子大会,World Polymer Congress 2002,(MACRO 2002) 2002年7月7～12日在北京召开。人数：700人,其中外方500人。中国化学会高分子委员会承办。 3.17届国际化学教育大会 17th IUPAC International Conference on Chemical Education 2002年8月25～31日在北京举行。人数：800人,其中外方300人。中国化学会秘书处承办。 4.国际分析仪器及实验室设备研讨会 International Workshop on Analytical Chemistry and Laboratory equipment (由德国慕尼黑展览公司主办的国际分析仪器及实验室设备展览会Analytica China 2002同时举行) 2002年9月3～5日在上海举行。人数：200人。其中外方20人。中国化学会秘书处承办。 2004年 第十八届国际纯粹和应用联合会化学热力学会议 The 18th IUPAC conference on Chemical Thermodynamics 2004年8月在北京举行。人数：600人,其中外方300人。由中国化学会秘书处承办。     

1500瓦轴快流CO2激光器电源系统

This paper introduces a SCR power supply for 1500W FAF CO₂ laser.Including anti-jamming triggers circuits and feed back circuit.This circuit is stabilization,simple and credibility.The industrial computer used by laser is studied.     

POSITIVE SOLUTIONS TO m-POINT BOUNDARY VALUE PROBLEM OF NONLINEAR FRACTIONAL DIFFERENTIAL EQUATION WITH p-LAPLACIAN

In this paper,we are concerned with the existence of positive solutions to an m-point boundary value problem with p-Laplacian of nonlinear fractional differential equation.By means of Krasnosel'skii fixed-point theorem on a convex cone and Leggett-Williams fixed-point theorem,the existence results of solutions are obtained.     

陶瓷的摩擦学

本文讨论了影响陶瓷摩擦学特性的主要因素。一般而论,环境对陶瓷摩擦和磨损性能的影响大于对金属材料的。靠近陶瓷表面的外层通常受表面吸附层的物理影响,而有时也化学地形成反应产物层。无论是物理性质的还是化学性质的表面层,均以具有高屈服压力,并起到诸如固体润滑层作用的陶瓷固体结构为支撑。     

重复率2 kHz、输出10 W的ArF准分子激光器

日本ウシオ电机株式会社批量生产标准样机,开发了一种重复率2 kHz、输出10 W的ArF准分子激光器。其稳定性±0.25%、线宽0.4 pm、脉宽50 ns,性能达到世界最高水平。 ArF激光波长为193 nm,可用作生产线幅0.10～0.13 μm半导体的光刻用光源。 该公司还利用相同的ArF激光器,在世界上首次实现重复率4 kHz、输出20 W的基本性能。 (以上由江涛供稿)