高PS材料制备及工艺研究

本文对高膜厚PS材料进行了研究,通过工艺优化,成功在G5线实现了60～120μm的高PS。通过前烘工艺和固化工艺优化调整,得到了无气泡、膜面良好的高PS材料。本文还对曝光量对PS影响进行了研究,发现曝光量低于50mJ时,PS材料无法有效成型;当曝光量达到150mJ时,得到形貌良好,达到设计值的PS。最后还对不同基底高PS材料进行了研究,发现未进行增粘处理时,SiN基底粘附性良好,Mo基底还需继续优化处理。     

宽谱光源平均波长测试系统光路设计仿真

利用像元分辨率公式和高斯光束传输理论,设计了一种基于线阵InGaAs光电探测器的宽谱光源平均波长测试系统光路结构。在Zemax光学软件中建立了宽谱光源平均波长测试系统的光路模型,并优化了该测试系统的光路结构参数。根据软件仿真建立的光路模型,分析了位置偏差对准直光束平行度及系统光能利用率的影响,得到了相应的变化曲线,为宽谱光源平均波长测试系统的结构设计和装配提供了指导。     

TDDI产品Mo-Al-Mo膜层腐蚀原因分析及改善

为降低TDDI产品Lead Open型线不良发生率,本文对Lead Open的发生机理进行了研究及改善验证。对TDDI产品生产数据进行了对比,对Mo-Al-Mo结构的SD膜层进行研究,根据以上结果确定改善方案并投入验证。首先,明确了Lead Open发生率与Delay Time的关系。接着,对SD膜层的微观结构进行了表征。然后,根据膜层结构和不同金属的电化学特征,建立了SD膜层电偶腐蚀模型。分析表明:Mo、Al两种金属间存在1.47V的电极电位差,具有很强的电偶腐蚀倾向性,且表层Mo中存在10nm级别的贯穿性孔洞,直径为0.4nm的水分子可轻易渗入,进而引发电偶腐蚀。表层Mo厚度增加25%后,其腐蚀速度较量产条件降低30%,Lead Open发生率降低1.4个百分点,维持在0.1%的较低水平,满足TDDI产品量产对该类不良发生率的要求。     

铁、氮共掺杂二氧化钛粉末的制备及光催化活性

Using TiCl₄ as the titanium source, nanoparticles of TiO₂ doped with nitrogen(N-TiO₂) were synthesized by triethylamine. TiO₂ powder codoped with iron and nitrogen(Fe/N-TiO₂) were prepared by adsorption-deposition of Fe³⁺ on N-TiO₂ and calcining at 400 ℃ for 2 h. From the XPS results for N1s binding energy at 399.6 eV and 396.6 eV, it is proposed that the partial N atoms as substitution atoms replace for O atoms in TiO₂ lattice. The onset of the absorption spectrum of Fe/N-TiO₂ has a 45 nm red-shift compared with that of TiO₂. The results of photocatalytic degradation of methylene blue solution indicate that Fe/N-TiO₂(0.45% Fe³⁺) has a higher activity. Its photocatalytic activity is about 2 times as high as that of pure TiO₂ under UV-light, and 3 times under sunlight. Doping of nitrogen in TiO₂ enhances photoresponse in visible light region and doping of Fe³⁺ reduces the recombination of electrons and holes. Both of the above effects are beneficial for improving the performances of Fe/N-TiO₂ photocatalyst.     

对初中物理新课改施教中一些现象的反思与看法

随着新课程改革的深入实施,人们的教育观念也逐步发生着转变.但在课堂教学中还存在着许多与新课改不协调的行为,诸如重知识传授,轻视能力培养;重课堂灌输,力求把知识讲细、讲深、讲透,忽视思维的启发和过程方法的学习;注重单方面教学,忽略学生反映的现象.这些行为说明我们还没有完全理解新课程改革的教学要求,还没有完全进入实施新课改的角色,还需要广大教师有目的、有意识的积极转变.下面就初中物理新课改施教中的一些现象谈谈自己的反思和看法.     

弹性动力问题的有限元与特解边界元耦合的数值方法

导出了特解边界元法与有限元法的耦合方程。并应用自由度缩减技术,使耦合方程的自由度缩减到有限元域及其和边界元域的耦合边界上。这样得到的耦合方程不增加原有限元方程的带宽和阶数。耦合方程的求解可以引用求解有限元方程的所有方法,易于程序实现。数值算例结果表明,本文所提出的方法是正确的,是一种较为理想的耦合方法。     

铁、氦共掺杂二氧化钛薄膜的亲水性能

采用溶胶-凝胶法制备了铁掺杂TiO2(Fe-TiO2)薄膜,将Fe-TiO2薄膜放置氨气气氛中高温处理,形成铁、氮共掺杂TiO2(Fe/N-TiO2)薄膜.通过XRD、XPS、SEM、UV-Vis法进行吸收光谱分析及薄膜表面亲水接触角分析,研究了铁、氮掺杂浓度,热处理温度,膜厚等因素对薄膜亲水性能的影响.结果表明,Fe/N-TiO2(0.5%Fe,摩尔百分数)显示出更佳的亲水性能,在可见光下优势尤为明显.铁掺杂主要作用是降低电子和空穴的复合几率,氮掺杂可以增强TiO2薄膜在可见光区的吸收,两种效应相互结合,共同提高了薄膜在可见光下的亲水性能.     

TFT-LCD取向层表面的针孔缺陷分析(英文)

在TFT-LCD的生产过程中,取向层表面针孔缺陷是造成产品不良的常见原因。应用聚焦离子束(FIB)、扫描电子显微镜(SEM)和光学测量系统(OMS)工具,并结合数据统计软件Business Objects(BO)对实际生产过程中的一种典型产品不良——黑点,进行了测试和分析。结果表明,取向层表面针孔缺陷是产生黑点不良的根本原因。在此基础上,进一步通过理论分析和实验研究证明,成膜过程中膜液的流体力学不稳定性是导致取向层表面针孔缺陷的重要原因,而固化时间则是影响流体力学不稳定性的重要参数。膜液流体力学不稳定性的充分发展并最终对膜结构产生影响需要一定时间,当固化时间接近甚至小于不稳定性充分发展的时间时,取向层表面产生针孔缺陷的机会将大大减小甚至消除。     

基于内存并行化聚类的用户用电行为分析

针对经典K-means选取初始值具有一定的盲目性和不确定性,提出了基于Canopy+算法的改进K-means聚类算法。首先对实验数据进行预处理,并从每条日负荷数据提取六个特征值;然后搭建Spark大数据集群,利用集群具有的内存并行化特点,提升改进聚类算法处理大规模数据的能力;最后将预处理后的用户日负荷数据进行单机K-means以及改进后算法的集群聚类。实验结果表明,在降低迭代次数的基础上,改进后集群聚类算法误差平方和降低3 659.906、轮廓系数提高0.03、DB指数下降0.06。使用改进后算法将电力用户划分为五个类别,其中具有调峰潜力、较优质的需求侧响应用户为第5类用户。     

刻蚀液的调整对Array Mura影响的研究

生产中经常出现常温污渍(Array Mura)不良。针对TFT面板布线细线化及低电阻电极的要求,纯铝工艺迫切需要新型湿法刻蚀液的对应。目前,本文通过对比3种产线中测试的刻蚀液,得出Array Mura的产生主要与纯铝工艺的顶层金属钼的刻蚀后缩进有关,其中测试的刻蚀液C可以有效控制金属钼的缩进至0.1μm以内。控制顶层金属钼缩进的主要原因与刻蚀液C的硝酸浓度和添加剂含量有关,通过控制药液进而控制了刻蚀过程内的电化学反应,最终使得Array Mura得到了有效的改善,后续无相关不良发生。采用刻蚀液C刻蚀后线宽、坡度角等相关刻蚀参数均满足要求,目前已经导入量产使用。