HDSL技术在接入网中的应用

高速数字用户线技术利用有的用户双绞铜线作媒介传输Ｅ１速率信号，是把高速数字业务接入到电信网的一种经济有效的解决方法。     

X射线光刻用的三层光刻胶

本文研究了X射线光刻采用的三层结构工艺。X射线光刻胶的性能,目前要比常规光刻胶差很远,特别是灵敏度较高的X射线胶,因此采用三层结构来弥补X射线胶的不足。X射线光刻中采用三层光刻胶后有如下几个特点:1、灵敏度高;2、纵宽比大;3、形貌图是可以控制的;4、干法刻蚀特性好。本文中采用平行板氧等离子刻蚀装置,得到垂直壁与欠切剖的形貌图。本文详细讨论了三层材料选取和搭配原则以及要求。     

高比特率数字用户线系统的原理与应用

高比特率数字用户线系统的原理与应用顾柏春，宋於得，蔡孝琴当前美、法等国电信部门大量采用高比特率数字用户线系统（ＨＤＳＬ）传输２Ｍｂ／ｓ的数字信号。研究其原因主要有：１．开发已有铜线资源，不需要对基础设施再投资，就可增加通带，传输２Ｍｂ／ｓ信号；２．既...     

集成电路中的物理问题讲座——第九讲 光电子与俄歇电子在X射线光刻中的影响

自从１９７２年Ｓｐｅａｒｓ与Ｓｍｉｔｈ[１］首先发表了Ｘ射线光刻的论文以来,美、日、西德和法国等都将Ｘ射线光刻列入超大规模集成电路的光刻工艺之一．美国贝尔电话公司已将Ｘ射线光刻机用于中间性生产线,做出了０．３０μｍ的短沟道的ＭＯＳ器件[２］Ｘ射线光刻受到重视的原因是：（１）最高分辨率可以做到为５０Ａ;（２）光刻的质量较用其它光刻技术好,表现在光刻后光刻胶的剖面图形的高度与宽度之比可达１５：１．?...     

HDSL技术在接入网中的应用

高速数字用户线（HDSL）技术利用现有的用户双绞铜线作媒介传输E1速率信号，是把高速数字业务接入到电信网的一种经济有效的解决方法。本文介绍了HDSL技术在应用中应考虑的几个问题，包括对HDSL设备传输码型的选择、线对数量、误码率选定、传输媒体和传输距离要求等。     

X射线光刻与超大规模集成电路

当前,集成电路正在向超大规模集成电路发展,预期在１９８５年到１９９０年间超大规模集成电路设计中将采用线宽为１至０．５微米的电路几何图形加工工艺（即亚微米工艺）．这将使电路成本大大下降,例如采用２微米线条,存储器每位成本为３２００微美分,采用１．５微米线条,成本为１９２５微美分,采用０．５微米线条,成本则下降至８４微美分．由于这样明显的经济效益,超大规模集成电路所需的各种技术正在迅速发展,其中?...