4-Mask工艺Cu腐蚀分析及改善研究

针对4-Mask工艺铜数据线腐蚀造成的锯齿状不良现象进行系统研究,发现铜腐蚀发生的工艺步骤和机理,并找到有效的措施。首先,通过显微镜对每道刻蚀工艺后铜数据线形貌进行观测,确定铜腐蚀发生的工艺步骤。接着,通过扫描电子显微镜和X射线电子能谱测量腐蚀生产物成分,对腐蚀机理提出合理解释。最后在铜腐蚀发生机理基础上,提出有效的改善措施。铜腐蚀是在有源半导体层干刻和光刻胶的灰化综合作用下发生,其主要产物为氧化铜、氯化铜。通过先进行灰化工艺然后进行有源半导体层干刻的工艺措施,在铜数据线两侧形成氧化铜保护膜,可以彻底改善铜腐蚀。改善措施可以解决铜腐蚀的问题,彻底消除铜数据线锯齿状不良。     

无线通信频段上人体的穿透损耗测量

本文选取了750 MHz～5.8 GHz频段上无线通信的常用频点,测量了人体、木门和墙体造成的电波穿透损耗。测量结果表明,人体造成的穿透损耗从5.8 dB～20 dB不等,这是是值得注意的。在实验中人体的遮挡面积是远小于墙面的,也小于木门,但是却获得了接近的穿透损耗。     

运营商案例：利用动环系统实现基站整体节能更高效

基站整体节能系统以动环平台为基础,能够陕速、有效、节省投资地实现远程监控、管理,推进运营商节能减排事业开展。