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CO_2激光诱导金属沉积机理研究 总被引:1,自引:0,他引:1
利用低功率CO2激光,从水性溶液中诱导沉积金属Ag,存在物理化学过程。电子探针分析表明,激光束作用下的金属颗粒在基材表面进行纵向沉积和横向沉积。结果表明,溶液中的Ag 在激光作用下,发生氧化还原反应生成Ag;基材表面在激光作用下产生“熔融”现象,金属颗粒在其表面的沉积存在一个熔融和渗透的过程,金属颗粒向基材内部渗透并在表面堆积的同时,也在表面横向渗透沉积。 相似文献
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为了研究低功率CO2激光诱导条件下,从水性溶液中诱导金属沉积机理,利用动态力显微镜分析了金属Ag过程中的晶粒分布以及晶体生长概貌;利用电子探针研究了金属沉积层在环氧树脂表面的横向和纵向沉积现象;利用X射线衍射方法研究了Ag-Cu沉积层中的Cu晶体生长过程中晶格常数的变化。结果表明,Ag晶粒在基材表面的沉积规律、生长分布与工艺参量以及激光模式有密切关系;金属微粒在环氧树脂表面的横向沉积,直接影响金属层的宽度,而其纵向沉积直接决定金属层的厚度;同Cu相比,Ag-Cu层也在(111),(200),(220)3个晶面衍射强度较大,但点阵常数α有微小变化,说明在沉积过程中有少量的杂质原子渗透到Cu金属层。 相似文献
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纳米压印模板通常采用极紫外光刻、聚焦离子束光刻和电子束光刻等传统光刻技术制备,成本较高.寻找一种简单、低成本的纳米压印模板制备方法以提升纳米压印光刻技术的应用成为研究的重点与难点.本文以多孔氧化铝为母模板,采用纳米压印光刻技术对纳米多孔硅模板的制备进行了研究.在硅基表面成功制备出纳米多孔阵列结构,孔间距为350—560 nm,孔径在170—480 nm,孔深为200 nm.在激发波长为514 nm时,拉曼光谱的测试结果表明,相对于单面抛光的硅片,纳米多孔结构的硅模板拉曼光强有了约12倍左右的提升,对提升硅基光电器件的应用具有重要的意义.最后,利用多孔硅模板作为纳米压印母模板,通过热压印技术,成功制备出了聚合物纳米柱软模板. 相似文献
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