浅析图像传感器领域专利检索方法

图像传感器是半导体产业中最具潜力的领域之一.专利文献检索分析对于中国图像传感器企业的技术和市场布局举足轻重.结合图像传感器领域的专利文献特点,讨论了在图像传感器领域中专利检索的思路和方法,总结了对该领域文献进行检索时推荐采用的一般方法.     

PCB电镀阳极发展演变概述

PCB电镀铜阳极的发展演变历程,并对各种不同类型阳极进行对比分析。     

显示领域GaN发光二极管概述与专利分析

介绍了氮化镓材料的发光二极管的工作原理,并以氮化镓发光二极管在国内外专利申请的数据为分析样本,从氮化镓发光二极管专利申请的时间、国家、技术概况等角度进行研究,分析了氮化镓发光二极管的技术发展现状,介绍了最早的相关专利,给出了申请量分布图、当前重要申请人介绍以及中国在该领域内的发展状况以及未来的发展趋势.     

三星公司在OLED领域的中国专利布局初探

OLED技术是显示领域的热点技术,国内企业在加大研发力度的同时,将面临如何进行专利布局以有效保护研究成果的问题.本文重点探讨了三星公司在OLED领域的中国专利申请情况及其特点.通过专利状况分析,对研究OLED行业的发展趋势以及使国内相关企业做好专利防范具有重要的参考意义.     

喷流方式对电镀填孔影响分析

电子产品更轻、更薄的发展趋势,使印制电路板在高密度互连技术上面临挑战。微孔堆叠技术是一种用来实现高密度互连的方法。如今,电镀填孔工艺已得到广泛的应用,主要是通过对流使填孔光剂产生吸附、消耗和扩散,从而填充盲孔。本文着重从底喷的对流的方式来介绍其对盲孔填孔的影响。     

硫酸铜镀液镀铜机理概述

概述了硫酸盐镀铜的基本原理以及镀液组分的作用机理,同时给出电镀铜厚与电镀参数之间的依赖关系,对生产有一定的指导意义,希望能为新工艺的开发提供理论依据。     

低噪声CMOS图像传感器的重点专利分析

随着大规模集成电路设计和信号处理技术的提高,CMOS图像传感器日益受到重视,成为固态图像传感器的研究热点,但是噪声仍是制约CMOS图像传感器发展的重要因素之一.针对低噪声的CMOS图像传感器技术领域的专利文献,给出了该领域主要申请人的申请量分布图,并对该领域的重要专利进行分析,介绍了前5位重要专利的技术特点.     

CMOS图像传感器专利分析——针对申请人以及目标国的分析

随着集成电路设计技术和工艺水平的进步,CMOS图像传感器已逐渐占据了主导地位.针对CMOS图像传感器技术领域的专利文献,分析了该领域主要申请人以及目标国的分布情况,使得申请人能够清楚了解该技术领域的专利状况.     

电镀双极化现象浅析

主要论述了电镀过程中的双极化现象及阐明其发生机理,并据此提出避免双极化的措施。     

电引发化学镀铜机理及应用

主要论述了印制电路板化学镀铜所采用的电引发起镀技术及其作用机理,同时给出其应用方法。