粉红圈质量缺陷的研究及改善

本文概述了薄镀铜粉红圈质量缺陷的探索研究历程,通过D0E试验证明,粉红圈的产生机理受传统因素影响甚小,导致粉红圈产生的主要因素为全板镀铜厚度太薄,从而在后续工序-图形电镀之酸性除油、微蚀、预浸等酸性溶液中长时间浸泡形成.脉冲电镀能够有效提高孔内铜厚与板面铜厚之比率及孔内铜的均匀性.通过试验及批量生产证明,PPR+SB工艺(增加全板孔内铜厚)能够极大地降低粉红圈产生的机率和严重程度,从而为粉红圈的最终解决提供了一条优化途径PPR+SB工艺.     

质子激发的亚千X光源

诊断技术领域的新设备 在激光聚变实验中,亚千电子伏能区的X光携带着激光与等离子体相互作用的大量信息。为了测好亚千X光的能量、能谱特性,给相应探测器件提供一个良好的灵敏度基准,1985年,中国工程物理研究院核物理与化学研究所自行设计了以质子束作为激发源的亚千X光光源系统。五年来,该系统已成功地运行了三次,性能良好,受到用户的好评。