甲基绿褪色光度法测定琥乙红霉素

在pH 7.8的磷酸盐缓冲溶液中,琥乙红霉素和甲基绿在50℃下可以反应形成稳定的离子缔合物。冷却至室温后以水做参比测定体系的吸收光谱,发现琥乙红霉素溶液在550~670 nm几乎无吸收,甲基绿在此区域有强烈的吸收,甲基绿与琥乙红霉素生成的离子缔合物的吸光度与甲基绿相比有明显降低,最大褪色波长在634 nm附近,且吸光度变化ΔA与琥乙红霉素的浓度成正比。琥乙红霉素的质量浓度在0.0009~0.1530 mg/mL范围内服从Beer定律,线性回归方程为:A=-3.037ρ+0.0355,r=0.9995;对10.00 mL 5.0×10-3mg/mL琥乙红霉素测定6次,RSD=0.6%,在634 nm测得ε=6.19×104L·mol-1·cm-1。研究了琥乙红霉素-甲基绿反应体系的光谱特性、反应的影响因素、共存物质的影响,做了反应的条件优化实验,对所建立的方法进行了一些初步的分析应用。在实验基础上,建立了测定琥乙红霉素的褪色分光光度法,检出限为0.21μg/mL,可用于琥乙红霉素片中琥乙红霉素含量的测定。     

化学镀镍浸金和化学镀镍镀钯浸金表面处理工艺概述及发展趋势

当今电子信息产品便携小巧、功能多样的发展趋势,推动了其所需PCB产品向轻薄、信号传送速度更快的方向发展,这对PCB表面处理工艺的稳定性、可靠性提出了新的挑战。另一方面,欧盟在2003年制定的RoHS、WEEE等规范都旨在消除电子产品中铅、汞等有害的物质,推动了PCB表面处理技术向绿色无铅化方向发展。化学镀镍浸金(简称ENIG)和在其基础上发展的化学镀镍镀钯浸金(简称ENEPIG)表面处理技术可以适应PCB精细线路多类型元件的无铅焊接装配要求。上述两种表面处理技术克服了由无铅工艺带来的诸多问题,但其自身也面临如何进一步降低成本和技术难度,提高工艺可靠性等一系列问题。     

甲基绿褪色分光光度法测定红霉素

建立了褪色分光光度法测定红霉素肠溶片中红霉素含量的方法。用二次石英蒸馏水为溶剂,甲基绿和红霉素在40℃下可以反应形成稳定的离子缔合物,以试剂空白做参比测定离子缔合物溶液的吸光度,离子缔合物的生成导致吸收光谱发生变化,且在一定范围内吸光度变化值ΔA与红霉素的浓度成正比,红霉素的浓度在0.000 6~0.105 0mg/mL范围内服从Beer定律,在635nm处测得ε=4.23×104 L/(mol·cm)-1,方法检出限达到0.26μg/mL。方法简便快捷,重现性和选择性好,可用于红霉素肠溶片中红霉素含量的测定。     

基于深度学习的风云四号卫星图像超分辨率重建

风云四号A卫星(FY-4A)部分通道的图像分辨率较低,影响风云卫星多通道协同监测能力。针对该问题,提出一种改进的超分辨率生成对抗网络(Enhanced Super-Resolution Generative Adversarial Networks, ESRGAN)算法来实现FY-4A影像的超分辨率重建。该方法基于ESRGAN的生成器架构,利用迁移学习策略,将预训练权重作为模型的初始值,设计了一组包含5层空洞卷积层的残差密集模块(Residual-in-Residual Dense Block, RRDB),并优化了损失函数。结果表明,在4倍影像分辨率重建下,相比于ESRGAN算法,改进的ESRGAN算法在峰值信噪比(Peak Signal-to-Noise Ratio, PSNR)、结构相似性(Structural Similarity, SSIM)、空间相关系数(Correlation Coefficient, CC)上分别提高了0.704、0.029、0.002,均方根误差(Root-Mean-Square Error, RMSE)降低了10%,且重建影像更加清晰自然,纹理更加细致。     

装备配套软件可靠性工程实践

装备配套软件由于其对装备硬件的依赖性较强,其可靠性研究及工程实践工作一直很难有效开展。该文在研究和分析现有的软件可靠性理论的基础上,论述了开展装备配套软件可靠性工作的关键,给出了软件可靠性工程的具体实践方法,为有效解决目前装备配套软件可靠性分配、设计、验证相对困难的问题提供指导。     

无源侦察中高速目标轨迹跟踪研究

导弹和卫星等高速目标的跟踪是反导雷达系统中的核心问题。传统的轨迹跟踪方法不能很好适应无源侦察设备对于高速目标的跟踪。本文提出了一种高速目标纯角度轨迹跟踪方法。该方法在初始跟踪段使用平均加权方式,并在一定迭代次数后采用Singer滤波,有效地降低了整个跟踪阶段的均方根误差,取得较好效果。     

大功率半导体激光器二元光学消像散准直器件设计

半导体激光器发出的光束具有较大的发散角且存在像散,严重影响了其应用。基于对半导体激光器远场分布的准确了解,提出了一种二元光学消像散准直器件的设计方法,并给出了详细的设计原理及过程。依据已知光束等相位面的具体分布（光束的像散因子也包含在其中）,可得到二元光学器件的相位分布,使光束经过此二元光学器件后,等相位面成为平面,达到了准直、消像散的目的。此方法简单、直观,具有很高的准确性和可行性。所得二元光学器件表面具有多位相的浮雕结构。