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1.
利用热注入法合成带有油酸配体的PbS量子点, 用短链乙醇胺替代长链油酸做为PbS量 子点的配体。 对比了由两种材料制得的量子点薄膜与Al形成的肖特基结的J-V特性,采用热 电子发射理论对其J-V特 性进行分析,结果发现,接有短链乙醇胺的PbS量子点薄膜具有更优的整流特 性,理想因子n为3.8,明显低 于采用油酸配体的PbS量子点(n=4.6)。 研究表明,短链配体有利于提高PbS薄膜表面的均匀性并形成较好的肖 特基接触;短链置换过程提高了量子点薄膜与Al电极的接触势垒高度,使肖特基结反向 漏电流降低。  相似文献   
2.
采用高温固相法合成了不同Si4+掺杂比例的 Gd1.6(W1-xSix)O 6:Eu3+0.4荧光粉,分析了Si4+掺杂对 Gd1.6(W1-xSix)O 6:Eu3+0.4荧光粉晶格结 构的影响,研究了不同Si4+掺杂比例下的XRD谱、激发光谱、发射光谱和衰减曲线。 结果发现:Si4+的掺杂改变了基质的结构,使得激活剂离子Eu3+周围的晶体场 改变,从而改变了荧光粉的发光效率,当Si4+ 的掺杂浓度达到0.4mol时,晶体对称性最差,粉体发光强度最大 。根据发射光谱和衰减曲线计算了样品的J-O强度参数 和无辐射跃迁几率,结果表明适量的Si4+掺杂可以抑制无辐射跃迁,提高发光强度。 计算结果与实验结果相符。  相似文献   
3.
采用高温固相法合成了不同Si 4+掺杂比例的Gd1.6(W1-x Six)O6:Eu3+0.4荧光粉,分析了Si 4+掺杂对Gd1.6(W1-x Six)O6:Eu3+0.4荧光粉晶格结构的影响,研究了不同Si 4+掺杂比例下的XRD谱、激发光谱、发射光谱和衰减曲线。结果发现:Si 4+的掺杂改变了基质的结构,使得激活剂离子Eu3+周围的晶体场改变,从而改变了荧光粉的发光效率,当Si 4+的掺杂浓度达到0.4mol时,晶体对称性最差,粉体发光强度最大。根据发射光谱和衰减曲线计算了样品的J-O强度参数和无辐射跃迁几率,结果表明适量的Si 4+掺杂可以抑制无辐射跃迁,提高发光强度。计算结果与实验结果相符。  相似文献   
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