排序方式: 共有8条查询结果,搜索用时 484 毫秒
1
1.
We report on Raman scattering of VO2 films prepared by radio frequency magnetron sputtering under different conditions. Our investigations revealed that the dominated Raman peaks shift towards high frequency for both V-rich and O-rich VO2 films, compared with the stoichiometry VO2 films. The experimental evidence is presented and the cause for nonstoichiometry dependence of Raman spectra of VO2 films is discussed. 相似文献
2.
时间监控离子束溅射沉积倍频波长分离膜 总被引:1,自引:0,他引:1
采用双离子束溅射技术、时间控厚方式制备波长532 nm绿光激光器用倍频波长分离膜.针对制备过程中产生的半波孔现象,在简单分析形成原因的基础上,采用分组厚度优化方式调整膜层厚度,从而制备出无半波孔的高品质倍频波长分离膜.为时间监控制备非规整膜系的厚度修正提供了一种切实可行的办法. 相似文献
3.
4.
研究了采用等离子辅助技术制备窄带滤光片的工艺。介绍了等离子辅助蒸镀系统的基本工作原理,描述了优化膜厚均匀性的过程。在有色玻璃上制备了由多层TiO2和SiO2薄膜组成的窄带滤光片,测试并分析了窄带滤光片的性能。试验结果表明,采用等离子体辅助蒸镀技术能够批量制备具有优良光学性能的窄带滤光片。 相似文献
5.
运用全积分散射理论,结合积分球的光度特性,研制了一种用于粗糙度测量的比较法全积分散射仪.用原子力显微镜分析了用相同的抛光工艺制备的三片超光滑硅片的表面粗糙度,其结果均在0.14~0.19 nm之间,说明了此抛光工艺的稳定性;用原子力显微镜测量值为0.143 nm均方根粗糙度的超光滑硅片作为参考样片,比较了其他三片相同工艺制备的硅表面的全积分散射测量结果,结果显示与标准片的测量结果非常接近,均在0.14~O.18 nm之间,验证了全积分散射法的合理性;进一步分析了锗、铝、碳化硅等表面的全积分散射测量结果,结果呈现出明显的差异,说明该方法具有较高的灵敏度和较大的动态范围. 相似文献
6.
相变前后VO2薄膜光学性质的研究 总被引:6,自引:0,他引:6
测量了玻璃、熔融石英及蓝宝石衬底上VO2 薄膜变温过程的红外透过率谱 ,对样品相变前后的光学性质进行了研究。特定温度下VO2 薄膜发生相变 ,其光学性质随之发生突变。不同衬底、不同制作工艺影响相变发生的温度以及相变前后光学性质的变化量。蓝宝石衬底上磁控溅射所得的VO2 膜 5 μm处透过率的减小量ΔT为 70 % ,相对变化ΔT TRT为 94 % ,玻璃衬底上磁控溅射所得的VO2 膜 2 5 μm处ΔT =6 4 2 % ,而ΔT TRT高达 98% ,接近于 1。 相似文献
7.
PcNi-VO2复合膜相变光谱特性研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用射频磁控溅射的方法在蓝宝石衬底上沉积了高品质的VO2薄膜,并在其上旋涂了酞菁镍[C8H17O]8PcNi薄膜.通过XRD研究了VO2薄膜的微结构.利用红外光谱仪观察了PcNi/VO2复合膜相变前后光学性质的改变,发现PcNi膜在1.5~5.5 μm对VO2膜有增透作用,PcNi/VO2复合膜相对于VO2膜的热色性和相变温度都没有改变.预期PcNi/VO2膜比单一PcNi膜和VO2膜的光限幅能力会更强. 相似文献
8.
运用Monte-Carlo法原理,用matlab软件编程,通过随机抽样,追迹了100000个光子,对一半径为100mm,漫反射率为0.85的积分球的光功率波形变换特性进行了模拟.结果显示,当入射光为脉宽无限窄的Dirac函数时,积分球的出射光功率波形是在指数曲线的基础上叠加了一个O平均值的振荡曲线,振荡幅度随时间很快降低,而且随统计时间间隔的增大趋向于0.在统计时间间隔与单次最大反射时间相比较大时,模拟结果与解析解基本吻合;在统计时间间隔与单次最大反射时间相当或更短时,对模拟数据可以进行指数拟合,相关系数一般大于0.98.拟合指数曲线给出的时间常数与解析解基本一致. 相似文献
1