基片温度对TiB2薄膜生长形貌及力学性能的影响

TiB2是一种超硬材料,块体TiB2的硬度高达HV30Gpa,而且耐腐蚀、抗氧化,还具有优良的导电性能,是一种受到广泛重视的导电耐磨涂层材料[1].     

AlN在AlN/VN纳米多层膜中的相转变及其对薄膜力学性能的影响

采用反应磁控溅射制备了AlN/VN纳米多层膜.研究了多层膜调制周期对AlN生长结构的影响以 及纳米多层膜的力学性能.结果表明：小周期多层膜中的AlN以亚稳的立方相(c-AlN)存在并 与VN形成共格外延生长的超晶格.薄膜产生硬度和弹性模量升高的超硬效应.大调制周期下， AlN从立方结构转变为稳定的六方相（h-AlN），并使多层膜形成纳米晶的“砖墙”型结构. 讨论认为VN的模板作用有利于c-AlN的生长，但不能显著提高其临界厚度. 关键词： 薄膜的力学性能 外延生长 亚稳相     

纳米多层膜中立方AlN外延生长的HRTEM观察

以亚稳态存在的立方ＡｌＮ具有很高的硬度、弹性模量、耐磨性、抗氧化性以及高温稳定性等优良的综合力学性能 ,是一种理想的硬质薄膜材料[1～ 3 ] 。ＡｌＮ通常以六方相存在 ,室温下转变为立方相需要高达 2 2 9ＧＰａ的压力 ,在 180 0Ｋ的温度时发生相变所需的压力也达到了 14到 16 5ＧＰａ[4] 。然而 ,在ＡｌＮ和另一立方结构组元如ＴｉＮ交替沉积形成的纳米多层膜中 ,ＡｌＮ在小的调制周期时可以通过外延生长形成立方结构 ,由此改善多层膜的力学性能[5] 。考虑到在ＴｉＮ调制层中加入Ａｌ可减小其与ＡｌＮ的错配度 ,有利于立方ＡｌＮ的…     

纳米多层膜中立方AIN外延生长的HRTEM观察

以亚稳态存在的立方AIN具有很高的硬度、弹性模量、耐磨性、抗氧化性以及高温稳定性等优良的综合力学性能,是一种理想的硬质薄膜材料[1-3].     

Ti—Si—N纳米复合薄膜的超硬性

ＴｉＮ薄膜具有高硬度、低摩擦系数等优良的综合机械性能 ,已作为耐磨减摩涂层得到广泛应用[1] 。尽管ＴｉＮ薄膜作为涂层材料具有优良的综合机械性能 ,但仍存在一些可以改进的方面 ,如它的高温抗氧化性不强 ,硬度还不够高 (ＨＶ2 2ＧＰａ左右 )等等[1] 。近几年来 ,一些超硬纳米复合薄膜体系表现出优越的机械性能 ,成为超硬薄膜研究热点之一。ＴｉＮ薄膜中加入少量的Ｓｉ,能够细化ＴｉＮ晶粒甚至可至纳米量级 ,可提高其硬度至 4 0～ 5 0ＧＰａ ,甚至可能接近金刚石的硬度[2 ,3 ] 。本文研究了Ｔｉ Ｓｉ Ｎ纳米复合薄膜硬度随Ｓｉ含量和基片…